[發(fā)明專利]調(diào)焦設(shè)備及方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201910865613.4
• 申請日: 2019-09-09
• 公開（公告）號: CN110740255A
• 公開（公告）日: 2020-01-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王博文
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市愛普泰科電子有限公司
• 主分類號: H04N5/232
• 分類號: H04N5/232;H04N17/00
• 代理公司: 44224 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 傅康

1.一種調(diào)焦設(shè)備，用于實(shí)現(xiàn)攝像頭模組的清晰度調(diào)節(jié)；其特征在于，所述調(diào)焦設(shè)備包括：

設(shè)備支架；

轉(zhuǎn)盤組件，設(shè)于所述設(shè)備支架上；其中，沿所述轉(zhuǎn)盤組件的周向上依次設(shè)有上料工位、第一預(yù)上電工位、第一調(diào)焦工位、第二預(yù)上電工位及第二調(diào)焦工位；

所述第一預(yù)上電工位用于對所述攝像頭模組進(jìn)行預(yù)上電；

所述第一調(diào)焦工位用于在所述預(yù)上電的過程中對所述攝像頭模組進(jìn)行第一次調(diào)焦；

所述第二預(yù)上電工位用于繼續(xù)對所述攝像頭模組進(jìn)行上電直到上電完成；

所述第二調(diào)焦工位用于對經(jīng)第一次調(diào)焦、并上電完成后的所述攝像頭模組進(jìn)行清晰度復(fù)檢，并在所述攝像頭模組的清晰度不滿足預(yù)設(shè)要求時(shí)，對所述攝像頭模組進(jìn)行第二次調(diào)焦。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的調(diào)焦設(shè)備，其特征在于，所述調(diào)焦設(shè)備還包括與各工位一一對應(yīng)設(shè)置的上料機(jī)構(gòu)、第一預(yù)上電機(jī)構(gòu)、第一調(diào)焦機(jī)構(gòu)、第二預(yù)上電機(jī)構(gòu)及第二調(diào)焦機(jī)構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)焦設(shè)備，其特征在于，所述第一調(diào)焦機(jī)構(gòu)包括一圖像傳感器，所述圖像傳感器用于獲取所述攝像頭模組中感光芯片的圖像數(shù)據(jù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的調(diào)焦設(shè)備，其特征在于，所述第二調(diào)焦機(jī)構(gòu)包括一圖像處理單元，所述圖像處理單元用于判斷經(jīng)所述第一調(diào)焦機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)后的攝像頭模組拍攝的圖像數(shù)據(jù)的清晰度是否滿足預(yù)設(shè)要求。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的調(diào)焦設(shè)備，其特征在于，還包括依次設(shè)于所述第二調(diào)焦工位和所述上料工位之間的臟污檢測工位、點(diǎn)膠工位及固化工位；其中，各工位于所述轉(zhuǎn)盤組件的周向上按照所述上料工位、第一預(yù)上電工位、第一調(diào)焦工位、第二預(yù)上電工位、第二調(diào)焦工位、臟污檢測工位、點(diǎn)膠工位及固化工位的順序進(jìn)行排布。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的調(diào)焦設(shè)備，其特征在于，還包括與所述臟污檢測工位、點(diǎn)膠工位及固化工位一一對應(yīng)設(shè)置的臟污檢測機(jī)構(gòu)、點(diǎn)膠機(jī)構(gòu)及固化機(jī)構(gòu)。

7.一種調(diào)焦方法，其特征在于，所述方法包括：

對一待調(diào)節(jié)攝像頭模組進(jìn)行預(yù)上電；

在所述預(yù)上電的過程中對所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組進(jìn)行第一次調(diào)焦；

對經(jīng)第一次調(diào)焦、并上電完成后的所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組的清晰度進(jìn)行檢測；

判斷檢測出來的清晰度指標(biāo)是否大于預(yù)設(shè)的清晰度門限值，若否，則對所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組進(jìn)行第二次調(diào)焦；其中，所述第一次調(diào)焦所調(diào)節(jié)的待調(diào)節(jié)攝像頭模組的清晰度低于所述第二次調(diào)焦所調(diào)節(jié)的待調(diào)節(jié)攝像頭模組的清晰度。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的調(diào)焦方法，其特征在于，所述在所述預(yù)通電的過程中對所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組進(jìn)行第一次調(diào)焦的步驟，包括：

控制所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組的鏡頭按照第一預(yù)設(shè)方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的調(diào)焦方法，其特征在于，還包括：

在控制所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組的鏡頭按照第一預(yù)設(shè)方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的過程中通過一圖像傳感器獲取所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組中感光芯片的圖像數(shù)據(jù)；

以所述圖像數(shù)據(jù)中像素個(gè)數(shù)由多變少時(shí)所述鏡頭所處的位置作為所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組第一次調(diào)焦后清晰度最高的位置。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的調(diào)焦方法，其特征在于，所述對經(jīng)第一次調(diào)焦、并上電完成后的所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組的清晰度進(jìn)行檢測的步驟，包括：

采用楔形線線對檢測方法對經(jīng)第一次調(diào)焦后的攝像頭模組的清晰度進(jìn)行檢測。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的調(diào)焦方法，其特征在于，所述對所述待調(diào)節(jié)攝像頭模組進(jìn)行第二次調(diào)焦的步驟，包括：

控制所述鏡頭按照第二預(yù)設(shè)方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；其中，所述第二預(yù)設(shè)方向與所述第一預(yù)設(shè)方向相反。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的調(diào)焦方法，其特征在于，還包括：

在控制所述鏡頭按照第二預(yù)設(shè)方向進(jìn)行旋轉(zhuǎn)的過程中獲取所述攝像頭模組拍攝的圖像數(shù)據(jù)；

通過一圖像處理單元對所述圖像數(shù)據(jù)的清晰度進(jìn)行分析；

以所述圖像數(shù)據(jù)的清晰度最高時(shí)所述鏡頭的位置作為所述攝像頭模組第二次調(diào)焦后清晰度最高的位置。