[發(fā)明專利]一種污水深度處理設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910865230.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112479476A | 公開(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 林海 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州友智環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C02F9/14 | 分類號(hào): | C02F9/14;C02F11/121 |
| 代理公司: | 上海宏京知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31297 | 代理人: | 何艷娥 |
| 地址: | 310018 浙江省杭州市杭州經(jīng)*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 污水 深度 處理 設(shè)備 | ||
1.一種污水深度處理設(shè)備,其特征在于,包括殼體,所述殼體內(nèi)部沿水平方向依次設(shè)置有調(diào)節(jié)池、反應(yīng)沉淀池、缺氧厭氧反應(yīng)池、好氧接觸反應(yīng)池、二級(jí)沉淀池、消毒池、污泥濃縮池和設(shè)備間;所述調(diào)節(jié)池相對(duì)兩側(cè)壁上分別設(shè)置有廢水進(jìn)水管和第一出水管;
所述反應(yīng)沉淀池內(nèi)部通過兩個(gè)第一分隔板沿污水流動(dòng)方向分隔為氧化反應(yīng)池、生物反應(yīng)池和初級(jí)沉淀池,兩個(gè)所述第一分隔板上部均開設(shè)有第一溢流口,所述第一出水管一端與所述氧化反應(yīng)池的底部相連通,所述氧化反應(yīng)池頂部通過加藥管路與所述設(shè)備間內(nèi)的藥液箱相連通,所述氧化反應(yīng)池內(nèi)部設(shè)有攪拌裝置,所述生物反應(yīng)池內(nèi)固定設(shè)置有若干對(duì)上固定板和下固定板,所述上固定板和下固定板之間安裝若干串生物載體,所述初級(jí)沉淀池中部安裝有斜管組件,所述氧化反應(yīng)池、生物反應(yīng)池和初級(jí)沉淀池底部均為倒梯形結(jié)構(gòu);
所述初級(jí)沉淀池上部通過第二出水管與所述缺氧厭氧反應(yīng)池下部相連通,所述缺氧厭氧反應(yīng)池內(nèi)部通過兩個(gè)第二分隔板沿污水流動(dòng)方向分隔為兼氧反應(yīng)室、缺氧反應(yīng)室和厭氧反應(yīng)室,兩個(gè)所述第二分隔板上部均開設(shè)有第二溢流口,所述缺氧反應(yīng)室和所述厭氧反應(yīng)室內(nèi)靠近于所述第二溢流口處均設(shè)置有折流板,所述折流板一端固定設(shè)置在所述缺氧反應(yīng)室或所述厭氧反應(yīng)室內(nèi)頂部,所述折流板另一端向下延伸至靠近于所述缺氧反應(yīng)室或所述厭氧反應(yīng)室內(nèi)底部處,且所述兼氧反應(yīng)室、缺氧反應(yīng)室和厭氧反應(yīng)室底部均為倒梯形結(jié)構(gòu);
所述缺氧厭氧反應(yīng)池中部通過第三出水管與所述好氧接觸反應(yīng)池中部相連通,所述第三出水管一端延伸至所述好氧接觸反應(yīng)池內(nèi),且所述第三出水管位于所述好氧接觸反應(yīng)池內(nèi)一端設(shè)有布水三角錐,所述布水三角錐下方設(shè)置有曝氣調(diào)控系統(tǒng),所述布水三角錐上方設(shè)置有懸浮填料;
所述好氧接觸反應(yīng)池通過第四出水管與所述二級(jí)沉淀池相連通,所述二級(jí)沉淀池通過第五出水管與所述消毒池相連通;
所述調(diào)節(jié)池、氧化反應(yīng)池、生物反應(yīng)池、初級(jí)沉淀池、兼氧反應(yīng)室、缺氧反應(yīng)室和厭氧反應(yīng)室、好氧接觸反應(yīng)池和二級(jí)沉淀池的底部均設(shè)置有排泥口,所述排泥口通過排泥管路與污泥濃縮池相連通。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污水深度處理設(shè)備,其特征在于,所述曝氣調(diào)控系統(tǒng)包括鼓風(fēng)機(jī)、送氣管、縱向曝氣管、橫向曝氣管和曝氣分管,所述鼓風(fēng)機(jī)位于所述設(shè)備間內(nèi),且所述鼓風(fēng)機(jī)通過送氣管與位于所述好氧接觸反應(yīng)池內(nèi)一側(cè)的縱向曝氣管相連通,所述縱向曝氣管上從上至下垂直連通有多個(gè)橫向曝氣管,所述橫向曝氣管一端固定連接在所述好氧接觸反應(yīng)池內(nèi)側(cè)壁上,多個(gè)所述橫向曝氣管上均勻開設(shè)有多個(gè)成對(duì)設(shè)置的分接口,所述分接口處均安裝有水平設(shè)置的曝氣分管,多個(gè)所述曝氣分管均平行設(shè)置,且曝氣分管與橫向曝氣管相垂直,所述曝氣分管上部均勻開設(shè)有多個(gè)成對(duì)設(shè)置的曝氣孔,成對(duì)設(shè)置的兩個(gè)所述曝氣孔與曝氣分管中心軸線形成的夾角為90度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的污水深度處理設(shè)備,其特征在于,所述好氧接觸反應(yīng)池內(nèi)中上部安裝有溶解氧測(cè)量儀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污水深度處理設(shè)備,其特征在于,所述初級(jí)沉淀池內(nèi)靠近于所述第一溢流口處設(shè)置有擋板,所述擋板一端固定設(shè)置在所述初級(jí)沉淀池內(nèi)頂部,所述擋板另一端設(shè)置有45度的轉(zhuǎn)角,所述擋板與位于初級(jí)沉淀池和生物反應(yīng)池之間的第一分隔板之間形成用于污水流入初級(jí)沉淀池的污水通道。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的污水深度處理設(shè)備,其特征在于,所述擋板底部處于所述第一分隔板上第一溢流口下方20-30cm處。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污水深度處理設(shè)備,其特征在于,所述二級(jí)沉淀池底部設(shè)置有與所述好氧接觸反應(yīng)池相連通的污泥回流管。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的污水深度處理設(shè)備,其特征在于,所述消毒池通過消毒液管與位于所述設(shè)備間的二氧化氯發(fā)生器相連接。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于杭州友智環(huán)??萍加邢薰?,未經(jīng)杭州友智環(huán)??萍加邢薰驹S可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910865230.7/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:焊料環(huán)定位方法
- 下一篇:一種正性液晶組合物及其應(yīng)用
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





