[發(fā)明專利]校準(zhǔn)方法及X射線成像系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910864304.5
• 申請日: 2019-09-12
• 公開（公告）號: CN112472109A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 谷紹波
• 申請（專利權(quán)）人: 通用電氣精準(zhǔn)醫(yī)療有限責(zé)任公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 汪駿飛;侯穎媖

1.一種校準(zhǔn)方法，其包括：

基于X射線源在第一位置曝光所得的第一圖像和所述X射線源在第二位置曝光所得的第二圖像，獲取所述X射線源的發(fā)射角度以及相對于探測器中心的偏移量，其中，第二位置在所述第一位置相對于所述探測器的垂直線或其延長線上；以及

基于所述X射線源的發(fā)射角度以及相對于探測器中心的偏移量，驅(qū)動所述X射線源，以使得所述X射線源對準(zhǔn)所述探測器的中心。

2.如權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)方法，其中，在所述第一位置和所述第二位置處的所述X射線源的曝光視野均在所述探測器的成像區(qū)域之內(nèi)。

3.如權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)方法，其中，所述第二位置在所述第一位置相對于所述探測器的垂直線上。

4.如權(quán)利要求1所述的校準(zhǔn)方法，其中，基于所述第一圖像和所述第二圖像，獲取所述X射線源的發(fā)射角度以及相對于探測器中心的偏移量進(jìn)一步包括：

確定所述第一位置與所述第二位置之間的距離H，所述第一圖像與第一基準(zhǔn)線的一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離A₁₁，所述第二圖像與所述第一基準(zhǔn)線的一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離A₁₂，所述第一圖像與所述第一基準(zhǔn)線的另一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離B₁₁，所述第二圖像與所述第一基準(zhǔn)線的另一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離B₁₂，所述第一圖像與第二基準(zhǔn)線的一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離A₂₁，所述第二圖像與所述第二基準(zhǔn)線的一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離A₂₂，所述第一圖像與所述第二基準(zhǔn)線的另一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離B₂₁，所述第二圖像與所述第二基準(zhǔn)線的另一端的交點(diǎn)到探測器中心的距離B₂₂，其中，所述第一基準(zhǔn)線為穿過所述探測器的中心且垂直于所述探測器的第一側(cè)邊的直線，所述第二基準(zhǔn)線為穿過所述探測器的中心且垂直于與所述第一側(cè)邊相鄰的第二側(cè)邊的直線。

5.如權(quán)利要求4所述的校準(zhǔn)方法，基于所述第一圖像和所述第二圖像，獲取所述X射線源的發(fā)射角度以及相對于探測器中心的偏移量進(jìn)一步包括：

基于所述第一位置與所述第二位置之間移動的距離，所述第一圖像和所述第二圖像與第一基準(zhǔn)線和第二基準(zhǔn)線之間的交點(diǎn)到所述探測器中心之間的距離，獲取所述X射線源的發(fā)射角度。

6.如權(quán)利要求5所述的校準(zhǔn)方法，其中，所述X射線源的發(fā)射角度包括中心射線與第一平面的偏移角α,其中，所述中心射線為所述X射線源發(fā)射的射線束的中心射線，所述第一平面為垂直于所述第一側(cè)邊的平面。

7.如權(quán)利要求6所述的校準(zhǔn)方法，其中，偏移角α通過如下公式得到：

其中，a₁＝A₁₁-A₁₂，為所述第一圖像和所述第二圖像與所述第一基準(zhǔn)線的一端的交點(diǎn)之間的距離，b₁＝B₁₁-B₁₂，為所述第一圖像和所述第二圖像與所述第一基準(zhǔn)線的另一端的交點(diǎn)之間的距離。

8.如權(quán)利要求6所述的校準(zhǔn)方法，其中，所述X射線源的發(fā)射角度包括所述中心射線與第二平面的偏移角β，其中，所述第二平面為垂直于所述第二側(cè)邊的平面。

9.如權(quán)利要求8所述的校準(zhǔn)方法，其中，偏移角β通過如下公式得到：

其中，a₂＝A₂₁-A₂₂，為所述第一圖像和所述第二圖像與所述第二基準(zhǔn)線的一端的交點(diǎn)之間的距離，b₂＝B₂₁-B₂₂，為所述第一圖像和所述第二圖像與所述第二基準(zhǔn)線的另一端的交點(diǎn)之間的距離。