[發(fā)明專利]超大超重襯底表面光刻膠均勻涂覆的旋涂設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910863246.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110673444B | 公開(公告)日: | 2020-06-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 晉云霞;孔釩宇;邵建達(dá);曹紅超;張益彬;王勇祿;陳俊明;孫勇;徐姣 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | G03F7/16 | 分類號(hào): | G03F7/16;B05C5/02;B05C13/02;B05C15/00 |
| 代理公司: | 上海恒慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人: | 張寧展 |
| 地址: | 201800 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 超大 超重 襯底 表面 光刻 均勻 設(shè)備 | ||
1.一種超大超重襯底表面光刻膠均勻涂覆的旋涂設(shè)備,其特征在于包括:旋涂主機(jī)(1)、上下樣系統(tǒng)(2)和總控系統(tǒng)(3),
所述的旋涂主機(jī)(1),包含上罩(4)、涂膠腔室(5)、勻膠轉(zhuǎn)盤(6)、同步罩(10)、第一頂升裝置(12)、上罩頂升裝置(13)、氣浮真空泵(14)、驅(qū)動(dòng)電機(jī)(15)、自動(dòng)滴膠系統(tǒng)(17)、氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)、真空泵(20)、大理石底座(21)和密封卡扣(8),以大理石底座(21)為基礎(chǔ),所述的氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)、第一頂升裝置(12)、驅(qū)動(dòng)電機(jī)(15)安裝在所述的大理石底座(21)上,所述的勻膠轉(zhuǎn)盤(6)安裝在氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)上,所述的上罩頂升裝置(13)安裝于旋涂主機(jī)(1)的外側(cè),所述的上罩頂升裝置(13)之頂是上罩(4),所述的同步罩(10)安裝在所述的上罩(4)中心的下方,所述的同步罩(10)的直徑與所述的勻膠轉(zhuǎn)盤(6)的直徑相等,所述的自動(dòng)滴膠系統(tǒng)(17)安裝在涂膠腔室(5)的底部,與所述的勻膠轉(zhuǎn)盤(6)有一定距離,所述的自動(dòng)滴膠系統(tǒng)(17)由儲(chǔ)液桶、蠕動(dòng)泵、滴膠管、轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)和滴膠臂組成,儲(chǔ)液桶在下方通過滴膠管與滴膠臂連接,蠕動(dòng)泵用來控制流量,當(dāng)需要滴膠時(shí),轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)帶動(dòng)滴膠臂在樣品上方滴液,所述的上罩(4)和涂膠腔室(5)的接觸部分要密封完好,并使用密封卡扣(8)扣緊;
所述的上下樣系統(tǒng)(2)包含傳送軌道(7)、傳動(dòng)電機(jī)(16)、第二頂升裝置(18)和大理石底座(22),在所述的大理石底座(22)上設(shè)置所述的第二頂升裝置(18),該系統(tǒng)最上部分是兩條平行傳送軌道(7),在傳送軌道(7)的下方安裝所述的傳動(dòng)電機(jī)(16);
所述的總控系統(tǒng)(3)通過線纜(9)與所述的第一頂升裝置(12)、上罩頂升裝置(13)、氣浮真空泵(14)、驅(qū)動(dòng)電機(jī)(15)、自動(dòng)滴膠系統(tǒng)(17)、氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)、真空泵(20)、第二頂升裝置(18)、傳動(dòng)電機(jī)(16)的控制端相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超大超重襯底表面光刻膠均勻涂覆的旋涂設(shè)備,其特征在于所述的氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)最高轉(zhuǎn)速為1000RPM,最高轉(zhuǎn)速加速度為25RPM/s,轉(zhuǎn)速精度優(yōu)于±1RPM,且具有自動(dòng)動(dòng)平衡調(diào)節(jié)功能,氣浮真空泵(14)安裝在氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)上,以提供穩(wěn)定的氣壓保證其安全運(yùn)行,驅(qū)動(dòng)電機(jī)(15)與氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)相連,為其提供旋轉(zhuǎn)動(dòng)力,所述的氣浮轉(zhuǎn)臺(tái)(19)的工藝參數(shù)如下:轉(zhuǎn)速加速度為10RPM/s,轉(zhuǎn)速為300-350RPM,恒轉(zhuǎn)速時(shí)間為120s,降速加速度為25RPM/s。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超大超重襯底表面光刻膠均勻涂覆的旋涂設(shè)備,其特征在于所述的勻膠轉(zhuǎn)盤(6)由四塊補(bǔ)圓工裝(23、24)和集液底板(25)組成,用于安裝所述的襯底。
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