[發明專利]一種碳納米片層負載TiO2 有效
| 申請號： | 201910857053.8 | 申請日： | 2019-09-11 |
| 公開（公告）號： | CN110523398B | 公開（公告）日： | 2021-08-06 |
| 發明（設計）人： | 徐世平;鄭旭陽;張啟亮;李璐璐;池英華;岳欽艷;高寶玉 | 申請（專利權）人： | 山東大學 |
| 主分類號： | B01J20/26 | 分類號： | B01J20/26;B01J20/30;B01D15/08;B01J21/18;B01J21/06 |
| 代理公司： | 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219 | 代理人： | 楊磊 |
| 地址： | 266237 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 納米 負載 tio base sub | ||
1.一種碳納米片層負載TiO2分子印跡材料的制備方法，其特征在于，該材料的微觀結構顯示：TiO2納米顆粒均勻分散在碳納米片層上，組成材料的基質；基質表面沉積有分子印跡聚合物；
包括步驟如下：
以碳納米片層負載TiO2復合光催化材料為基質，以抗生素為模板分子，以三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯為交聯劑，以甲基丙烯酸為功能單體，在氮氣氣氛下，引發聚合反應；反應完成后去除模板分子，即得碳納米片層負載TiO2分子印跡材料；
去除模板分子的方式為：
用乙醇和蒸餾水洗滌后，加入蒸餾水，置于200-600 W紫外燈下光照1-5小時。
2.根據權利要求1所述的碳納米片層負載TiO2分子印跡材料的制備方法，其特征在于，所述的抗生素為環丙沙星、四環素、磺胺甲惡唑或恩諾沙星。
3.根據權利要求1所述的碳納米片層負載TiO2分子印跡材料的制備方法，其特征在于，基質與分子印跡聚合物的質量比為1:2-8。
4.根據權利要求1所述的碳納米片層負載TiO2分子印跡材料的制備方法，其特征在于，引發聚合反應的引發劑為偶氮二異丁腈。
5.根據權利要求1所述的碳納米片層負載TiO2分子印跡材料的制備方法，其特征在于，交聯劑和功能單體的總質量與基質的質量比為（2-8）：1；
模板分子：功能單體：交聯劑的摩爾比為1:（2-6）:（5-15）。
6.根據權利要求1所述的碳納米片層負載TiO2分子印跡材料的制備方法，其特征在于，聚合反應溫度為50-90℃，聚合反應時間為15-30小時。
7.根據權利要求1所述的碳納米片層負載TiO2分子印跡材料的制備方法，其特征在于，紫外燈光照完成后，將樣品放入索氏提取器中，以甲醇和乙酸的混合液作為提取液，70-110℃索式提取24小時，提取完的樣品用乙醇/水洗并置于80℃烘箱中烘干。
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