[發(fā)明專利]一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910853656.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-10 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111394727A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳仁華;聶國(guó)勇;李建立 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)沙利潔環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23F1/46 | 分類號(hào): | C23F1/46;C23F1/18;C25C1/12;C25C7/06;C25B1/26;C25B15/08;B01D53/18 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)沙優(yōu)企知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43243 | 代理人: | 劉佳芳 |
| 地址: | 410000 湖南省長(zhǎng)沙市*** | 國(guó)省代碼: | 湖南;43 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 酸性 蝕刻 循環(huán) 再生 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),包括電解槽(30)、循環(huán)槽(20)、氯氣吸收回用塔(10);所述電解槽(30)內(nèi)設(shè)有陽(yáng)極區(qū)(301)和陰極區(qū)(302);所述循環(huán)槽(20)分為陽(yáng)極循環(huán)區(qū)(229)、蝕刻循環(huán)區(qū)(230)和陰極循環(huán)區(qū)(231);所述電解槽的陽(yáng)極區(qū)(301)分別與循環(huán)槽的陽(yáng)極循環(huán)區(qū)(229)和蝕刻循環(huán)區(qū)(230)連通;所述電解槽的陰極區(qū)(302)與陰極循環(huán)區(qū)(231)相互連通;所述電解槽的陽(yáng)極區(qū)(301)和陰極區(qū)(302)以及所述循環(huán)槽(20)的蝕刻循環(huán)區(qū)(230)、陰極循環(huán)區(qū)(231)與氯氣吸收回用塔(10)連通;所述氯氣吸收回用塔(10)與陽(yáng)極循環(huán)區(qū)(229)連通。該再生系統(tǒng)可以將酸性蝕刻液在線循環(huán)再生直接利用,節(jié)約成本,且氯氣零排放,保護(hù)環(huán)境。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及蝕刻技術(shù)領(lǐng)域,具體公開(kāi)了一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)。
背景技術(shù)
由于蝕刻精度要求越來(lái)越高,環(huán)境保護(hù)壓力逐年增大,到目前,絕大多數(shù)PCB生產(chǎn)企業(yè)均選擇使用酸性或堿性氯化銅蝕刻液。酸性氯化銅蝕刻液主要成分為氯化鈉、HCl和氯化銅,堿性氯化銅蝕刻液的主要成分為氯化銨,氨水和氯化銅。
酸性氯化銅蝕刻液因具有蝕刻速率快,穩(wěn)定、易控制及再生等特點(diǎn),普遍應(yīng)用于目前的印刷線路板的蝕刻工序中。酸性蝕刻液在蝕刻銅箔的過(guò)程中會(huì)發(fā)生Cu+ Cu2+ →2CuCl的反應(yīng)。隨著反應(yīng)的進(jìn)行,蝕刻液中Cu2+離子的濃度減小,而Cu+離子的濃度不斷增大,蝕刻能力隨之降低。當(dāng)Cu2+離子消耗至一定程度后,蝕刻液的蝕刻能力將無(wú)法滿足生產(chǎn)需求而需再生處理。酸性蝕刻液再生主要有化學(xué)再生法和電解再生法。化學(xué)再生法如氯酸鈉氧化法、雙氧水再生法等,需加入氧化劑等物質(zhì),最終會(huì)對(duì)外排出一部分酸性蝕刻液,不僅污染壞境,還會(huì)造成大量銅和酸的浪費(fèi)。電解再生法是一種在線再生方法,可以實(shí)現(xiàn)蝕刻工作與蝕刻液再生在一個(gè)體系中連續(xù)運(yùn)行,即陽(yáng)極再生蝕刻液的同時(shí),還可以在陰極沉積回收銅,使蝕刻過(guò)程中增加的銅得以回收,為線路板企業(yè)增加額外的收入。而現(xiàn)已經(jīng)報(bào)道的電解處理酸性氯化銅蝕刻液方法,有大量氯氣、氫氣等有害危險(xiǎn)氣體析出,不僅污染壞境,而且也浪費(fèi)資源。
關(guān)于酸性蝕刻液的循環(huán)再生裝置已有很多人研究,例如:201610646322.2 公開(kāi)了一種高含銅蝕刻液再生循環(huán)系統(tǒng),它包括蝕刻線,溶解再生缸、過(guò)濾器,蝕刻線與溶解再生缸通過(guò)管道連接,且在該管道上設(shè)置有廢液提升泵,溶解再生缸與過(guò)濾器通過(guò)管道連接,且在該管道上設(shè)置有蝕刻液提升泵,過(guò)濾器與蝕刻線連通。
公開(kāi)號(hào)為CN106119853A的中國(guó)專利申請(qǐng)公開(kāi)了一種“高效零排放廢酸性銅蝕刻液
回收及再生系統(tǒng)”,由銅電解回收裝置和再生裝置兩部分組成,但是該系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)間冗長(zhǎng),一個(gè)循環(huán)周期約為20~100小時(shí),而且銅片的回收效率較低。
發(fā)明內(nèi)容
為解決背景技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明提出一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)。該裝置直接與蝕刻線連通,可以將酸性蝕刻液實(shí)現(xiàn)在線循環(huán)再生直接利用,節(jié)約成本,且氯氣零排放,保護(hù)環(huán)境。
一種酸性蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng),包括蝕刻線和電解槽,還包括循環(huán)槽、氯氣吸收回用塔、母液儲(chǔ)備桶和再生液儲(chǔ)備桶;
所述電解槽內(nèi)設(shè)有陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū);
所述循環(huán)槽包括槽體,所述槽體的底部通過(guò)隔板分割為陽(yáng)極循環(huán)區(qū)、蝕刻循環(huán)區(qū)和陰極循環(huán)區(qū),其中蝕刻循環(huán)區(qū)和陽(yáng)極循環(huán)區(qū)頂部相通;
所述電解槽的陽(yáng)極區(qū)分別與循環(huán)槽的陽(yáng)極循環(huán)區(qū)和蝕刻循環(huán)區(qū)連通;所述電解槽的陰極區(qū)與陰極循環(huán)區(qū)相互連通;所述電解槽的陽(yáng)極區(qū)和陰極區(qū)以及所述循環(huán)槽的蝕刻循環(huán)區(qū)、陰極循環(huán)區(qū)與氯氣吸收回用塔連通;所述氯氣吸收回用塔與循環(huán)槽的陽(yáng)極循環(huán)區(qū)連通;
所述母液儲(chǔ)備桶與陽(yáng)極循環(huán)區(qū)、蝕刻循環(huán)區(qū)和陰極循環(huán)區(qū)連通;
所述再生液儲(chǔ)備桶與陽(yáng)極循環(huán)區(qū)和陰極循環(huán)區(qū)連通;
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