[發(fā)明專利]液晶顯示裝置的制造方法以及液晶顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910847212.6 | 申請日: | 2019-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN110908151B | 公開(公告)日: | 2022-07-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 津田和彥;渡邊善樹;白井紀(jì)充 | 申請(專利權(quán))人: | 松下液晶顯示器株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 液晶 顯示裝置 制造 方法 以及 | ||
提供能夠抑制基于蝕刻的部件的故障的發(fā)生的液晶顯示裝置的制造方法。液晶顯示裝置(1)的制造方法,包括:第一照射步驟(步驟S101),向第一玻璃板以及第二玻璃板的第一位置,以第一照射能量照射激光;第二照射步驟(步驟S102),向第一玻璃板以及第二玻璃板的第二位置,以比第一照射能量高的第二照射能量照射激光;以及蝕刻步驟(步驟S103),在第一照射步驟以及第二照射步驟之后,不折斷第一位置,并且,折斷第二位置,以形成第一基板以及第二基板的外周的至少一部分的方式,使蝕刻液浸蝕顯示面板。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及,液晶顯示裝置的制造方法、以及由該制造方法制造的液晶顯示裝置。
背景技術(shù)
利用了具有液晶的顯示面板的液晶顯示裝置,能夠以低消耗電力顯示圖像,因此,作為電視機或監(jiān)視器等的顯示器等利用。
為了制造任意的尺寸的顯示面板,進行切斷顯示面板具有的玻璃制的基板等的加工(例如,參照專利文獻1)。
專利文獻1公開,向基板的預(yù)定切斷的部位照射激光,進一步,對照射了激光的基板進行蝕刻,從而進行基板的切斷來制造顯示面板的方法。
(現(xiàn)有技術(shù)文獻)
(專利文獻)
專利文獻1:日本特開2010-126398號公報
然而,存在的問題是,在液晶、電子電路等的部件被配置的多個基板彼此重疊的狀態(tài)下利用蝕刻進行該基板的切斷的情況下,部件被蝕刻液浸蝕,從而導(dǎo)致部件的故障。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決這樣的問題,本公開提供,能夠抑制基于蝕刻的部件的故障的發(fā)生的液晶顯示裝置的制造方法。
為了實現(xiàn)所述目的,本公開涉及的液晶顯示裝置的制造方法的一個實施方案,所述液晶顯示裝置具備顯示面板,該顯示面板具有第一基板、與所述第一基板相對配置的第二基板、以及由所述第一基板以及所述第二基板夾著的液晶,所述液晶顯示裝置的制造方法包括:第一照射步驟,向第一玻璃板以及第二玻璃板的第一位置,以第一照射能量照射激光;第二照射步驟,向所述第一玻璃板以及所述第二玻璃板的第二位置,以比所述第一照射能量高的第二照射能量照射激光;以及蝕刻步驟,在所述第一照射步驟以及所述第二照射步驟之后,不折斷所述第一位置,并且,折斷所述第二位置,以形成所述第一基板以及所述第二基板的外周的至少一部分的方式,使蝕刻液浸蝕所述顯示面板。
并且,本公開涉及的液晶顯示裝置的制造方法的另一個實施方案,所述液晶顯示裝置具備顯示面板,該顯示面板具有第一基板、與所述第一基板相對配置的第二基板、以及由所述第一基板以及所述第二基板夾著的液晶,所述液晶顯示裝置的制造方法包括:切斷步驟,由切割刀切斷第一玻璃板以及第二玻璃板;第一照射步驟,向所述第一玻璃板以及所述第二玻璃板的第一位置,照射激光;以及蝕刻步驟,在所述切斷步驟以及所述第一照射步驟之后,以不折斷所述第一位置的方式,使蝕刻液浸蝕所述第一玻璃板以及所述第二玻璃板,對所述第一基板以及所述第二基板的外周的至少一部分進行蝕刻。
并且,本公開涉及的液晶顯示裝置的一個實施方案,顯示面板,具有第一基板、與所述第一基板相對配置的第二基板、以及由所述第一基板以及所述第二基板夾著的液晶:以及密封部件,被形成在所述第一基板以及所述第二基板之間,粘接在所述第一基板以及所述第二基板的雙方,在對所述顯示面板進行平面視的情況下,所述密封部件包括:第一密封部,以環(huán)狀包圍所述液晶:以及第二密封部,一方的端部與所述第一密封部連接,另一方的端部在平面視中與所述第一基板以及所述第二基板重疊。
根據(jù)本公開的一個實施方案涉及的液晶顯示的制造方法等,能夠抑制基于蝕刻的部件的故障的發(fā)生。
附圖說明
圖1是示意性地示出實施方式涉及的液晶顯示裝置的概略結(jié)構(gòu)的圖。
圖2是示意性地示出實施方式涉及的液晶顯示裝置的截面結(jié)構(gòu)的圖。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





