[發明專利]一種基于各向異性雙光子吸收效應的光束整形裝置

有效

• 申請號: 201910834408.1
• 申請日: 2019-09-05
• 公開（公告）號: CN110658631B
• 公開（公告）日: 2021-11-05
• 發明（設計）人: 顧兵;胡月球;聞博;芮光浩;崔一平
• 申請（專利權）人: 東南大學
• 主分類號: G02B27/09
• 分類號: G02B27/09;G02B27/28
• 代理公司: 南京眾聯專利代理有限公司 32206
• 代理人: 杜靜靜

1.一種基于各向異性雙光子吸收效應的光束整形裝置，其特征在于，所述整形裝置自左向右依次為飛秒脈沖激光器、矢量光場生成系統、聚焦透鏡、各向異性雙光子吸收材料、以及光場檢測系統，其中激光器輸出光束光強橫向分布為高斯型或近高斯型線偏振光束，能夠激發材料的各向異性雙光子吸收效應，矢量光生成系統為4F系統，能夠生成空間偏振態任意分布的矢量光場，各向異性雙光子吸收材料為c切割的ZnSe單軸晶軸，雙面拋光。

2.根據權利要求1所述的基于各向異性雙光子吸收效應的光束整形裝置，其特征在于，所述的聚焦透鏡為弱聚焦消色差正透鏡。

3.根據權利要求2所述的基于各向異性雙光子吸收效應的光束整形裝置，其特征在于，所述聚焦透鏡為焦距150 mm的消色差透鏡。

4.根據權利要求3所述的基于各向異性雙光子吸收效應的光束整形裝置，其特征在于，所述光束檢測系統為激光光束質量分析儀，能夠探測激光束的橫向光強分布。

5.一種基于各向異性雙光子吸收效應的平頂光束生成方法，其特征在于，所述生成方法如下：

步驟1：設計目標矢量場所需相位圖；

步驟2：將步驟1計算得到的相位圖加載到空間光調制器上，利用4F系統生成入射矢量光場；

步驟3：將入射場聚焦到ZnSe晶體表面，晶體位于聚焦透鏡的焦平面上；

步驟4：利用光束分析儀檢測生成的平頂光束光強分布情況；

步驟5：根據生成效果反饋優化相位圖，提高光束整形效果；

其中激光器輸出光束光強橫向分布為高斯型或近高斯型線偏振光束，能夠激發材料的各向異性雙光子吸收效應，矢量光生成系統為4F系統，能夠生成空間偏振態任意分布的矢量光場，各向異性雙光子吸收材料為c切割的ZnSe單軸晶軸，雙面拋光。