[發明專利]鏡片磨制方法及鏡片在審
| 申請號: | 201910833152.2 | 申請日: | 2019-09-04 |
| 公開(公告)號: | CN110509117A | 公開(公告)日: | 2019-11-29 |
| 發明(設計)人: | 劉光華 | 申請(專利權)人: | 劉光華 |
| 主分類號: | B24B1/00 | 分類號: | B24B1/00;B24B13/00;B24B13/01;B24B47/12;B08B3/02;G02C7/02 |
| 代理公司: | 11399 北京冠和權律師事務所 | 代理人: | 陳國軍<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 100000 北京市大興*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鏡片基材 磨制 磨頭 后表面 前表面 鏡片 環形分布 幾何中心 屈光介質 光交叉 折射率 凹面 凸面 對準 透明 | ||
1.一種鏡片磨制方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:選取一定折射率的透明屈光介質作為鏡片基材(1);
S2:選用若干不同曲率半徑的第一磨頭(2),按曲率半徑從小到大依次磨制鏡片基材(1),使用所述第一磨頭(2)的凸面對準鏡片基材(1)的幾何中心來旋轉磨制鏡片基材(1)后表面,在鏡片基材(1)的后表面得到不同屈光程度的負屈光呈環形分布的區域;
S3:選用若干不同曲率半徑的第二磨頭(3),按曲率半徑從小到大依次磨制鏡片基材(1),使用所述第二磨頭(3)的凹面旋轉磨制鏡片基材(1)前表面下方,在鏡片基材(1)的前表面下方得到不同屈光程度的正屈光呈環形分布的區域;
S4:鏡片基材(1)的前表面下方和后表面的不同屈光程度的正屈光、負屈光交叉重疊,得到新的屈光程度。
2.根據權利要求1所述的鏡片磨制方法,其特征在于,
所述鏡片基材(1)為圓形透明塊;
所述鏡片基材(1)的材料為樹脂,所述鏡片基材(1)的折射率為1.56、1.601、1.67、1.70、1.74中任一種;或所述鏡片基材(1)的材料為PC,所述鏡片基材(1)的折射率為1.59;
若干所述第一磨頭(2)直徑相同,所述第一磨頭(2)的旋轉中心為其幾何中心,所述第一磨頭(2)的旋轉軸與鏡片基材(1)的軸線同軸;
若干所述第二磨頭(3)直徑相同,所述第二磨頭(3)的旋轉中心為其幾何中心,若干所述第二磨頭(3)的旋轉中心在鏡片基材的投影重疊、且位于參考線上,所述參考線為與鏡片基材(2)垂直中心線夾角為9.5度或11.5度的穿中心線,所述垂直中心線為過鏡片基材中心、且與鏡片基材軸線垂直的線,所述第二磨頭(3)的旋轉軸線與參考線垂直相交,并與鏡片基材(1)的鏡面垂直。
3.根據權利要求1所述的鏡片磨制方法,其特征在于,
所述鏡片基材(1)為圓形透明塊;
所述鏡片基材(1)的材料為樹脂,所述鏡片基材(1)的折射率為1.56、1.601、1.67、1.70、1.74中任一種;或所述鏡片基材(1)的材料為PC,所述鏡片基材(1)的折射率為1.59;
若干所述第一磨頭(2)直徑不同,所述第一磨頭(2)的旋轉中心為其幾何中心,所述第一磨頭(2)的旋轉軸與鏡片基材(1)的軸線同軸;
若干所述第二磨頭(3)直徑不同,若干所述第二磨頭(3)旋轉中心在鏡片基材的投影共線,所述第二磨頭(3)的旋轉中心為其幾何中心,所述共線為共參考線,所述參考線為與鏡片基材(1)垂直中心線夾角為9.5度或11.5度的穿中心線,所述垂直中心線為過鏡片基材中心、且與鏡片基材軸線垂直的線,所述第二磨頭(3)的旋轉軸線與參考線垂直相交,并與鏡片基材(1)的鏡面垂直。
4.根據權利要求1所述的鏡片磨制方法,其特征在于,所述方法還包括:
S5:使用不同曲率半徑的圓柱形磨頭,所述圓柱形磨頭的旋轉軸線選擇與驗光處方中負散光軸相同或與正散光軸為垂直的角度,所述圓柱形磨頭的旋轉軸線與鏡片基材(1)所在平面平行,經過磨制,可在鏡片基材上需要散光的位置得到對應的散光屈光度和散光軸。
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