[發(fā)明專利]防污性膜和聚合性組合物

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910832094.1
• 申請日: 2019-09-04
• 公開（公告）號: CN110885469A
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 芝井康博;田口登喜生
• 申請（專利權(quán)）人: 夏普株式會社
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C08J5/18;C09D4/06;C09D4/02;C09D5/16;G02B1/18;C08L1/12;C08L67/02;C08L33/12
• 代理公司: 北京市隆安律師事務(wù)所 11323
• 代理人: 權(quán)鮮枝;劉寧軍

本發(fā)明提供即使長時間連續(xù)制造也能較高地維持防污性的防污性膜。本發(fā)明的防污性膜具備：基材；以及聚合物層，其配置于上述基材的表面上，在表面具有按可見光的波長以下的間距設(shè)置多個凸部的凹凸結(jié)構(gòu)，在上述防污性膜中，上述聚合物層是聚合性組合物的固化物，上述聚合性組合物以有效成分換算含有2.5～12.5重量％的具有(甲基)丙烯酰基的氟系低聚物、1～10重量％的包括氟鏈段和非氟鏈段的嵌段共聚物，上述氟系低聚物是全氟聚醚系低聚物和全氟烷基系低聚物中的至少一方。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及防污性膜和聚合性組合物。

背景技術(shù)

對于具有防反射性的光學膜，已進行了各種研究(例如，參照專利文獻1～3)。特別是，已知具有納米尺寸的凹凸結(jié)構(gòu)(納米結(jié)構(gòu))的光學膜具有優(yōu)異的防反射性。根據(jù)這種凹凸結(jié)構(gòu)，由于折射率從空氣層到基材連續(xù)地變化，所以能顯著地減少反射光。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：特開平9-145903號公報

專利文獻2：特開2007-178724號公報

專利文獻3：特開2018-59047號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的問題

然而，在這種光學膜中，雖然具有優(yōu)異的防反射性，但另一方面，由于其表面的凹凸結(jié)構(gòu)，所以當指紋(皮脂)等污垢附著時，附著的污垢易于擴展，而且，有時難以將進入到凸部之間的污垢擦除。另外，附著的污垢由于其反射率與光學膜的反射率大不相同，因此，易于被看到。因此，已要求在表面具有納米尺寸的凹凸結(jié)構(gòu)且對污垢的擦除性(例如指紋擦除性)即防污性優(yōu)異的功能性膜(防污性膜)。

對此，本發(fā)明的發(fā)明人們進行了研究，發(fā)現(xiàn)在構(gòu)成光學膜的凹凸結(jié)構(gòu)的聚合物層中，若作為其構(gòu)成成分而配合氟系化合物，則防污性提高。

然而，本發(fā)明的發(fā)明人們進一步進行了研究，發(fā)現(xiàn)若在形成聚合物層的凹凸結(jié)構(gòu)時使用模具，則伴隨著模具的轉(zhuǎn)印次數(shù)的增加，模具的脫模性易于降低，其結(jié)果是，得到的防污性膜的防污性易于降低。

如上所示，以往有實現(xiàn)即使長時間連續(xù)制造也能較高地維持防污性的防污性膜這一問題。然而，仍未找到解決上述問題的方案。例如，在上述專利文獻1～3中，沒有關(guān)于由長時間連續(xù)制造所帶來的防污性膜的防污性降低的記載，并未解決上述問題。

本發(fā)明是鑒于上述現(xiàn)狀而完成的，其目的在于提供即使長時間連續(xù)制造也能較高地維持防污性的防污性膜和能構(gòu)成上述防污性膜的聚合物層的聚合性組合物。

用于解決問題的方案

本發(fā)明的一個方面可以是一種防污性膜，具備：基材；以及聚合物層，其配置于上述基材的表面上，在表面具有按可見光的波長以下的間距設(shè)置多個凸部的凹凸結(jié)構(gòu)，在上述防污性膜中，上述聚合物層是聚合性組合物的固化物，上述聚合性組合物以有效成分換算含有2.5～12.5重量％的具有(甲基)丙烯酰基的氟系低聚物、1～10重量％的包括氟鏈段和非氟鏈段的嵌段共聚物，上述氟系低聚物包含全氟聚醚系低聚物和全氟烷基系低聚物中的至少一方。

本發(fā)明的另一個方面可以是一種聚合性組合物，以有效成分換算含有2.5～12.5重量％的具有(甲基)丙烯酰基的氟系低聚物、1～10重量％的包括氟鏈段和非氟鏈段的嵌段共聚物，上述氟系低聚物包含全氟聚醚系低聚物和全氟烷基系低聚物中的至少一方。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，能提供即使長時間連續(xù)制造也能較高地維持防污性的防污性膜和能構(gòu)成上述防污性膜的聚合物層的聚合性組合物。