[發明專利]一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備

有效

• 申請號: 201910830902.0
• 申請日: 2019-09-04
• 公開（公告）號: CN110373651B
• 公開（公告）日: 2023-07-04
• 發明（設計）人: 蔡茜;付斗才
• 申請（專利權）人: 成都道啟弘環境科技有限公司
• 主分類號: C23C16/27
• 分類號: C23C16/27;C23C16/511
• 代理公司: 成都為知盾專利代理事務所(特殊普通合伙) 51267
• 代理人: 李漢強

1.一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于：主要由微波發生器、工藝進氣管、微波屏蔽層、旋轉托盤、冷卻盤管、水冷系統、真空系統和鍍膜殼體組成，其中鍍膜殼體為密封性能的腔體，在鍍膜腔體內壁上設置微波屏蔽層，所述旋轉托盤安裝在內底部，所述微波發生器與鍍膜殼體內部連通，所述工藝進氣管與鍍膜殼體內連通，所述冷卻盤管安裝在鍍膜殼體內且與水冷系統連接，所述真空系統與鍍膜殼體內連通；

所述微波發生器包括微波源電信號、諧振腔、微波衰減器、導波管和微波發射喇叭，所述微波源電信號、諧振腔位于鍍膜腔體外，波導管安裝在鍍膜腔體上與鍍膜腔體內連通，所述微波發射喇叭連接在波導管位于鍍膜腔體內的末端，且在波導管內安裝微波衰減器；

工藝進氣管與微波發射喇叭連通，工藝進氣管的工藝氣體包括含碳氣體和保護氣體，所述含碳氣體包括甲烷和乙炔，所述保護氣體包括氦氣和氬氣。

2.根據權利要求1所述的一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于，所述鍍膜腔體為球形或圓柱形。

3.根據權利要求1所述的一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于，所述鍍膜殼體內壁四周和外壁四周都設置有微波屏蔽層。

4.根據權利要求1所述的一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于，所述工藝進氣管上設置有工藝控制閥。

5.根據權利要求1所述的一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于，所述真空系統與鍍膜殼體的連接管道上安裝有抽氣閥門。

6.根據權利要求1所述的一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于，所述鍍膜殼體內的真空度是維持在0.1～0.5Pa之間。

7.根據權利要求1所述的一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于，所述鍍膜殼體采用奧氏體不銹鋼。

8.根據權利要求1所述的一種微波鍍納米金剛石薄膜的設備，其特征在于，真空系統與鍍膜殼體最底部連接。