[發明專利]陶瓷結構件及其制備方法和終端

有效

• 申請號: 201910830365.X
• 申請日: 2019-08-31
• 公開（公告）號: CN111848204B
• 公開（公告）日: 2022-06-14
• 發明（設計）人: 朱廣祥;郜成杰;黃義宏
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: C04B37/00
• 分類號: C04B37/00;H04M1/02;G04G17/08
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強

1.一種陶瓷結構件，其特征在于，包括連接為一體的透明陶瓷構件和氧化鋯陶瓷構件，所述透明陶瓷構件與所述氧化鋯陶瓷構件兩者的連接面之間設置無機過渡層，所述透明陶瓷構件與所述氧化鋯陶瓷構件通過所述無機過渡層連接為一體；所述透明陶瓷構件和所述氧化鋯陶瓷構件的任意位置連接處無縫隙，或者部分位置連接處具有寬度小于或等于0.04mm的縫隙，其余位置連接處無縫隙，所述無機過渡層的材料包括金屬釬焊料、或氧化硼、或氮化硅、或氧化鈦；所述陶瓷結構件為共燒結體，所述無機過渡層與所述透明陶瓷構件和氧化鋯陶瓷構件共同構成所述共燒結體；在共燒結制備所述陶瓷結構件的過程中，所述無機過渡層原料的燒結收縮量介于所述透明陶瓷構件原料的燒結收縮量和所述氧化鋯陶瓷構件原料的燒結收縮量之間；所述透明陶瓷構件和/或所述氧化鋯陶瓷構件的連接面為粗糙面，粗糙度為10nm-100μm。

2.如權利要求 1所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述透明陶瓷構件和所述氧化鋯陶瓷構件的部分位置連接處具有寬度小于或等于0.03mm的縫隙，其余位置連接處無縫隙。

3.如權利要求 1所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述無機過渡層的材料還包括透明陶瓷粉末和氧化鋯陶瓷粉末。

4.如權利要求3所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述透明陶瓷粉末包括構成所述透明陶瓷構件的陶瓷原料粉末，所述氧化鋯陶瓷粉末包括構成所述氧化鋯陶瓷構件的陶瓷原料粉末。

5.如權利要求4所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述無機過渡層中，自所述透明陶瓷構件一側向所述氧化鋯陶瓷構件一側，所述構成透明陶瓷構件的陶瓷原料粉末的含量逐漸減小，所述構成氧化鋯陶瓷構件的陶瓷原料粉末的含量逐漸增大。

6.如權利要求1所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述無機過渡層為單層或多層結構。

7.如權利要求1所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述無機過渡層的厚度為1nm-500μm。

8.如權利要求1所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述透明陶瓷構件和所述氧化鋯陶瓷構件兩者的連接面為可相互配合的非平面結構。

9.如權利要求1所述的陶瓷結構件，其特征在于，所述陶瓷結構件為終端殼體。

10.一種陶瓷結構件的制備方法，其特征在于，包括：

在透明陶瓷素坯或構件與氧化鋯陶瓷素坯或構件預連接的連接面之間設置無機過渡層材料，使所述無機過渡層材料與所述透明陶瓷素坯或構件結合，以及與所述氧化鋯陶瓷素坯或構件結合，然后共燒結，得到陶瓷結構件；

所述陶瓷結構件包括連接為一體的透明陶瓷構件和氧化鋯陶瓷構件，所述透明陶瓷構件與所述氧化鋯陶瓷構件兩者的連接面之間設置無機過渡層，所述無機過渡層的材料包括金屬釬焊料、或氧化硼、或氮化硅、或氧化鈦，所述透明陶瓷構件與所述氧化鋯陶瓷構件通過所述無機過渡層連接為一體；所述透明陶瓷構件和所述氧化鋯陶瓷構件的任意位置連接處無縫隙；所述無機過渡層與所述透明陶瓷構件和氧化鋯陶瓷構件為共燒結體；在共燒結制備所述陶瓷結構件的過程中，所述無機過渡層原料的燒結收縮量介于所述透明陶瓷構件原料的燒結收縮量和所述氧化鋯陶瓷構件原料的燒結收縮量之間；所述透明陶瓷構件和/或所述氧化鋯陶瓷構件的連接面為粗糙面，粗糙度為10nm-100μm。

11.如權利要求10所述的陶瓷結構件的制備方法，其特征在于，所述無機過渡層材料還包括透明陶瓷粉末和氧化鋯陶瓷粉末。