[發明專利]殼體的制備方法、殼體及移動終端有效
| 申請號: | 201910829336.1 | 申請日: | 2019-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN112442653B | 公開(公告)日: | 2022-12-13 |
| 發明(設計)人: | 王煜琨;孫坤 | 申請(專利權)人: | 北京小米移動軟件有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/08;C23C14/10;H04M1/02 |
| 代理公司: | 北京善任知識產權代理有限公司 11650 | 代理人: | 康艷青 |
| 地址: | 100085 北京市海淀區清河*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 殼體 制備 方法 移動 終端 | ||
1.一種殼體的制備方法,其特征在于,包括:
在殼體的基底上形成遮蔽保護圖案層;其中,所述遮蔽保護圖案層,遮蔽所述基底的第一區域,且顯露所述基底的第二區域;
在覆蓋所述遮蔽保護圖案層的所述基底之上,通過PVD方式形成至少一個第一類膜層;
在形成所述至少一個第一類膜層之后,去除所述遮蔽保護圖案層;
在形成有所述第一類膜層的所述基底上,通過PVD方式形成至少一個第二類膜層;其中,所述至少一個第二類膜層覆蓋所述第一類膜層和所述基底的第二區域;
形成功能層;其中,所述第一類膜層和所述第二類膜層位于所述殼體的內表面,且所述功能層覆蓋在所述第二類膜層上;
其中,所述功能層的作用至少包括:用于遮擋外界向所述殼體內的功能元件發射的電磁波干擾。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述在覆蓋所述遮蔽保護圖案層的所述基底之上,通過PVD方式形成至少一個第一類膜層,包括:
基于所述遮蔽保護圖案層,通過PVD方式形成堆疊設置的多個所述第一類膜層;其中,不同所述第一類膜層對可見光具有不同的處理效果,以呈現不同的視覺效果;
所述在形成有所述第一類膜層的所述基底上,通過PVD方式形成至少一個第二類膜層,包括:
在形成有所述第一類膜層的所述基底上,通過PVD方式形成堆疊設置的多個所述第二類膜層;其中,不同所述第二類膜層對可見光具有不同的處理效果,以呈現不同的視覺效果。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,
不同所述第一類膜層的材質相同且厚度不同,不同厚度的相同材質的所述第一類膜層對可見光具有不同的干涉處理效果;
或者,
不同所述第一類膜層的材質不同,不同材質的所述第一類膜層具有不同的折射率。
4.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,
不同所述第二類膜層的材質相同且厚度不同,不同厚度的相同材質的所述第二類膜層對可見光具有不同的干涉處理效果;
或者,
不同所述第二類膜層的材質不同,不同材質的所述第二類膜層具有不同的折射率。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述功能層的作用還包括以下至少之一:
用于遮擋外界光源向所述殼體內的功能元件發射的光線;
或者,
用于傳導熱量;
或者,
用于與所述外界光源、蒸鍍有所述第一類膜層和所述第二類膜層的所述基底共同作用,以使所述殼體呈現預設顏色;
或者,
用于將所述第二類膜層與所述功能元件隔離。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
在所述殼體的基底上形成緩沖層;其中,所述緩沖層,位于所述第一類膜層和所述基底之間,還位于所述第二類膜層和所述基底之間,用于緩沖所述第一類膜層與所述基底之間的內應力,還用于緩沖所述第二類膜層與所述基底之間的內應力;
所述在殼體的基底上形成遮蔽保護圖案層,包括:
在形成有所述緩沖層的所述基底上形成所述遮蔽保護圖案層。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,
所述基底為透明基底。
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