[發(fā)明專利]陀螺儀及工藝修正陀螺儀正交誤差的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910826543.1 | 申請日： | 2019-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN110514188B | 公開（公告）日： | 2021-01-26 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 鄒波;郭梅寒 | 申請（專利權(quán)）人： | 深迪半導(dǎo)體（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G01C19/5656 | 分類號： | G01C19/5656;G01C25/00 |
| 代理公司： | 上海劍秋知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31382 | 代理人： | 楊飛 |
| 地址： | 201203 上海市浦東新區(qū)自由*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 陀螺儀 工藝 修正 正交 誤差 方法 | ||
1.一種修正陀螺儀正交誤差的方法，其特征在于，質(zhì)量塊在若干彈性梁配合下適于沿驅(qū)動方向和檢測方向活動；所述若干彈性梁包括相配合的第一彈性梁和第二彈性梁，所述第一彈性梁與所述第二彈性梁具有不同的結(jié)構(gòu)，所述第一彈性梁為單梁結(jié)構(gòu)，所述第二彈性梁包括若干子彈性梁，任一所述子彈性梁的尺寸小于所述第一彈性梁的尺寸，所述第二彈性梁的尺寸由所述若干子彈性梁的尺寸所限定，從而在限定所述若干彈性梁的工藝中，工藝參數(shù)的調(diào)整對于所述第一彈性梁的剛度和所述第二彈性梁的剛度的影響程度不同，從而可以通過對所述第一彈性梁的剛度和所述第二彈性梁的剛度的調(diào)整來抵消所述陀螺儀的正交誤差。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述限定所述若干彈性梁的工藝是光刻工藝，通過所述光刻工藝調(diào)整所述第一彈性梁和所述第二彈性梁的尺寸，從而影響兩者的剛度。
3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，在所述光刻工藝中通過曝光能量來調(diào)整所述第一彈性梁和所述第二彈性梁的尺寸。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述子彈性梁的數(shù)量為2。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在制備所述陀螺儀的晶圓上，如不同區(qū)域的陀螺儀具有不同的正交誤差，則在所述不同區(qū)域采用相應(yīng)的所述工藝參數(shù)來使得所述不同區(qū)域的陀螺儀的正交誤差均能被抵消。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述限定所述若干彈性梁的工藝是光刻工藝，通過步進式光刻機來對所述不同區(qū)域采用相應(yīng)的曝光能量，以調(diào)整所述第一彈性梁的尺寸和所述第二彈性梁的尺寸，從而影響兩者的剛度。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，設(shè)置有多個所述第一彈性梁以及一個所述第二彈性梁。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一彈性梁和所述第二彈性梁均設(shè)置在所述質(zhì)量塊的外圍。
9.一種陀螺儀，其特征在于，采用如權(quán)利要求1~8任一所述的方法制備。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深迪半導(dǎo)體（上海）有限公司，未經(jīng)深迪半導(dǎo)體（上海）有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910826543.1/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01C 測量距離、水準或者方位；勘測；導(dǎo)航；陀螺儀；攝影測量學(xué)或視頻測量學(xué)
G01C19-00 陀螺儀；使用振動部件的轉(zhuǎn)動敏感裝置；不帶有運動部件的轉(zhuǎn)動敏感裝置
G01C19-02 .旋轉(zhuǎn)式陀螺儀
G01C19-56 .使用振動部件的轉(zhuǎn)動敏感裝置，例如基于科里奧利力的振動角速度傳感器
G01C19-58 .不帶有運動部件的轉(zhuǎn)動敏感裝置
G01C19-60 ..電子磁共振或核磁共振陀螺測量儀
G01C19-64 ..利用薩格萘克效應(yīng)，即利用逆向旋轉(zhuǎn)的兩電磁束之間旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生位移的陀螺測量儀
