[發(fā)明專利]一種基于分層奇偶重排的極化碼周期性鑿孔圖樣構(gòu)造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910821837.5 | 申請日: | 2019-09-02 |
| 公開(公告)號: | CN110752851B | 公開(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳海強;鄧賢恩;王留洋;方毅仁;孫友明;黎相成;覃團發(fā) | 申請(專利權(quán))人: | 廣西大學(xué) |
| 主分類號: | H03M13/13 | 分類號: | H03M13/13 |
| 代理公司: | 深圳市六加知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44372 | 代理人: | 向彬 |
| 地址: | 530000 廣西壯族*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 分層 奇偶 重排 極化 周期性 鑿孔 圖樣 構(gòu)造 方法 | ||
1.一種基于分層奇偶重排的極化碼周期性鑿孔圖樣構(gòu)造方法,其特征在于,所述方法包括:
S1初始化:記母碼長度N,鑿孔位數(shù)Np,左子圖樣和右子圖樣的取整操作分別為[·]l和[·]r,最初分裂層根據(jù)公式計算設(shè)計層深度L,其中表示對log2Np向上取整,表示根節(jié)點的周期鑿孔圖樣;
S2分層重排:
S21:當i=1:L時,進行逐層分裂,當k為奇數(shù)時,根據(jù)公式當k為偶數(shù)時,根據(jù)公式分別計算第i層偶數(shù)位置和奇數(shù)位置上的子圖樣鑿孔位置數(shù),其中k=0,1,…,2i-1表示子圖樣的序號,i表示當前的層數(shù);
S22:逐層分裂到第L層,得到第L層的2L個子周期圖樣
S23:以性能為優(yōu)化目標,確定第L層的子周期圖樣的分布特性;
S24:對i=L+1:n,利用步驟S23得到的圖樣執(zhí)行奇偶重排分裂,得到最終鑿孔向量以及對應(yīng)的
2.如權(quán)利要求1所述的基于分層奇偶重排的極化碼周期性鑿孔圖樣構(gòu)造方法,其特征在于,在初始化中:
令表示根節(jié)點的周期鑿孔圖樣,即N個碼位中有Np個位置需要鑿孔,與對應(yīng)的鑿孔向量為上標表示當前的層數(shù),其中根節(jié)點層數(shù)記為0,在第1層執(zhí)行第1次分裂即進行1次RN奇偶重排操作,得到2個子圖樣,記左邊的子圖樣為右邊的子圖樣為于是第1層的鑿孔圖樣為
3.如權(quán)利要求1或2所述的基于分層奇偶重排的極化碼周期性鑿孔圖樣構(gòu)造方法,其特征在于,在分層重排的步驟S21中:
為使得左右兩邊子圖樣的鑿孔位置數(shù)最大的數(shù)值差距不超過1,令其中,[·]l表示左子圖樣的取整操作,[·]r表示右子圖樣的取整操作,并且有Np=[Np/2]l+[Np/2]r,在第1層的基礎(chǔ)上執(zhí)行第2次分裂,即進行2次RN/2奇偶重排操作,分裂后的子圖樣有4個,于是第2層的鑿孔圖樣為每個子圖樣的鑿孔位置按照如下規(guī)則選取其余層數(shù)的鑿孔圖樣設(shè)計依據(jù)以上規(guī)則迭代進行。
4.如權(quán)利要求1或2所述的基于分層奇偶重排的極化碼周期性鑿孔圖樣構(gòu)造方法,其特征在于,在所述步驟S21中:
當k為偶數(shù)時,即k=0,2,…,2i-2,對應(yīng)當前層的左子圖樣其鑿孔位置數(shù)由上一層的鑿孔位置數(shù)進行左取整[·]l操作得到,即其中當k/2為偶數(shù)時,對應(yīng)的是上一層的左子圖樣;當k/2為奇數(shù)時,對應(yīng)的是上一層的右子圖樣。
5.如權(quán)利要求1或2所述的基于分層奇偶重排的極化碼周期性鑿孔圖樣構(gòu)造方法,其特征在于,在所述步驟S21中:
當k為奇數(shù)時,即k=1,3,…,2i-1,對應(yīng)當前層的右子圖樣其鑿孔位置數(shù)由上一層的鑿孔位置數(shù)進行右取整[·]r操作得到,即其中當(k-1)/2為偶數(shù)時,對應(yīng)的是上一層的左子圖樣;當(k-1)/2為奇數(shù)時,對應(yīng)的是上一層的右子圖樣。
6.如權(quán)利要求1或2所述的基于分層奇偶重排的極化碼周期性鑿孔圖樣構(gòu)造方法,其特征在于,在步驟S23中,當分裂到第L層時,其中共有2L個分支,對應(yīng)2L個子周期圖樣,記為這時每個子圖樣所包含的鑿孔位置數(shù)量要么是0要么是1,即因此第L層子周期圖樣都呈現(xiàn)或者的形式,即N/2L個位置要么全1要么只有1個0,即只選取1個鑿孔位,因此對應(yīng)的周期只有N/2L種組合圖樣模式,只需將鑿孔位遍歷的N/2L個位置即可,在第L層進行設(shè)計,并以性能為優(yōu)化目標確定的圖樣分布特性。
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