[發(fā)明專利]顯示裝置和用于制造該顯示裝置的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910814474.2 | 申請日: | 2019-08-30 |
| 公開(公告)號: | CN110875367A | 公開(公告)日: | 2020-03-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樸鎮(zhèn)鎬 | 申請(專利權(quán))人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡勝有;譚天 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示裝置 用于 制造 方法 | ||
1.一種顯示裝置,包括:
基板,其具有有源區(qū)域和圍繞所述有源區(qū)域的外圍區(qū)域;
相機(jī)孔,其設(shè)置在所述基板的所述有源區(qū)域中;
多個(gè)子像素,其設(shè)置在所述有源區(qū)域中同時(shí)相對于所述相機(jī)孔間隔開第一距離,所述多個(gè)子像素分別包括多個(gè)發(fā)光層;以及
至少一個(gè)有機(jī)公共層,其設(shè)置在所述多個(gè)發(fā)光層上或所述多個(gè)發(fā)光層之下,
其中所述至少一個(gè)有機(jī)公共層包括與距所述相機(jī)孔的第二距離相對應(yīng)的間斷部,所述第二距離小于或等于所述第一距離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述間斷部是所述至少一個(gè)有機(jī)公共層中的孔,或者
其中所述間斷部是所述至少一個(gè)有機(jī)公共層中的空白處,所述空白處沒有所述至少一個(gè)有機(jī)公共層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中除在對應(yīng)于所述間斷部和所述相機(jī)孔的區(qū)域之外,所述至少一個(gè)有機(jī)公共層在所述有源區(qū)域中具有一體化的結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中所述至少一個(gè)有機(jī)公共層包括設(shè)置在所述多個(gè)發(fā)光層之下的第一有機(jī)公共層,和設(shè)置在所述多個(gè)發(fā)光層上的第二有機(jī)公共層,
其中所述第一有機(jī)公共層接觸所述多個(gè)子像素中的每個(gè)子像素中的第一電極,以及
其中所述第二有機(jī)公共層接觸所述多個(gè)子像素中的每個(gè)子像素中的第二電極。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其中所述第二電極具有直徑等于所述第二有機(jī)公共層的間斷部的直徑的間斷部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,其中所述第二有機(jī)公共層交疊所述外圍區(qū)域中的所述第一有機(jī)公共層,以及
其中所述第二電極交疊所述外圍區(qū)域中的所述第二有機(jī)公共層。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示裝置,還包括:
設(shè)置在所述基板上的緩沖層,所述緩沖層在距所述相機(jī)孔所述第二距離內(nèi)的區(qū)域內(nèi)具有防裂圖案;以及
設(shè)置在所述基板上的阻擋層,所述阻擋層交疊包括所述多個(gè)子像素的所述有源區(qū)域和所述外圍區(qū)域,
其中所述防裂圖案的凹槽填充有所述阻擋層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置,其中所述防裂圖案包括布置在所述緩沖層中的一個(gè)或更多個(gè)凹槽,所述一個(gè)或更多個(gè)凹槽具有之字形形狀、波狀形狀或彎曲形狀。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示裝置,其中所述緩沖層包括:
多個(gè)無機(jī)堆疊體,其設(shè)置成鄰近所述基板;以及
有源緩沖層,其設(shè)置在所述多個(gè)無機(jī)堆疊體上,所述有源緩沖層設(shè)置在半導(dǎo)體層上方或下方,所述半導(dǎo)體層設(shè)置在所述有源區(qū)域中。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,其中圍繞所述相機(jī)孔的區(qū)域不存在所述至少一個(gè)有機(jī)公共層,以及
其中所述至少一個(gè)有機(jī)公共層的邊緣相對于所述相機(jī)孔的邊緣間隔開所述第二距離。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,還包括:
壩圖案,其設(shè)置在距所述相機(jī)孔所述第二距離的區(qū)域內(nèi),所述壩圖案相對于所述相機(jī)孔和所述至少一個(gè)有機(jī)公共層間隔開。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示裝置,其中所述多個(gè)子像素分別通過堤部彼此分開,所述壩圖案包括與所述堤部相同的材料。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,還包括:
設(shè)置在所述基板上的緩沖層,
在所述基板上方的阻擋層,所述阻擋層交疊包括所述多個(gè)子像素的所述有源區(qū)域和所述外圍區(qū)域,
其中所述阻擋層在距所述相機(jī)孔所述第二距離的區(qū)域內(nèi)接觸所述緩沖層。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的顯示裝置,其中所述阻擋層包括至少一個(gè)有機(jī)層和至少一個(gè)無機(jī)層。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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