[發(fā)明專(zhuān)利]切片加工用制劑和加工處理液在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910813115.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110875221A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-03-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 只野剛;廣瀨昌史;阿久津悠太 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 日化精工株式會(huì)社 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01L21/67 | 分類(lèi)號(hào): | H01L21/67;C09D129/04;C09D171/02 |
| 代理公司: | 中國(guó)專(zhuān)利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 馬倩;梅黎 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 切片 工用 制劑 加工 處理 | ||
本發(fā)明課題在于有效地去除在切片步驟中由晶片產(chǎn)生的切片屑、由切片膠帶的粘合劑層產(chǎn)生的粘合劑的微細(xì)片。解決課題的手段是:切片加工用制劑,其在純水中含有聚合度為200~400且皂化度為75~85摩爾%的部分皂化聚乙烯醇1.0~1.5質(zhì)量%、和聚氧亞乙基與聚氧亞丙基的聚合數(shù)比為75:25~85:15且數(shù)均分子量為10000~20000的聚氧亞乙基聚氧亞丙基二醇醚0.4~0.6質(zhì)量%。該切片加工用制劑純水稀釋至1萬(wàn)~10萬(wàn)倍而制成加工處理液,在切片加工處理步驟中對(duì)切片刀片噴灑使用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在進(jìn)行切片(dicing)處理時(shí)使用的加工用制劑和加工處理液,所述切片處理中,將在晶片上形成的大量芯片狀的器件通過(guò)切片刀片進(jìn)行切分。
背景技術(shù)
以硅或藍(lán)寶石等化合物作為基板的LSI、CMOS、功率器件等帶有圖案的晶片中,各器件通過(guò)劃片道(street)而分隔從而大量形成。作為將通過(guò)這樣的劃片道而在縱橫方向上被分隔而分離的器件在劃片道處進(jìn)行分割而單片化為制成單個(gè)器件時(shí)的方法,主要有使刀片高速旋轉(zhuǎn)從而切片的方法、照射激光而切斷的方法。
通過(guò)切片刀片而進(jìn)行切片的情況下,需要在晶片與旋轉(zhuǎn)的切片刀片之間流動(dòng)加工處理液,將切斷部位進(jìn)行冷卻,同時(shí)還減少切斷時(shí)的摩擦阻抗,從而順利地進(jìn)行切片,并且沖洗因切片而產(chǎn)生的切屑從而去除。
作為針對(duì)如上所述的問(wèn)題的應(yīng)對(duì)法,最初使用純水作為加工處理液。其后,為了進(jìn)一步提高其效果,研究了各種各樣的方法。例如,已知處理液,其在重均分子量為40000~160000、包含50質(zhì)量%以上的乙烯基吡咯烷酮、與乙烯基乙酸酯等含乙烯的單體形成的聚合物中含有發(fā)泡劑。(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)
這樣的處理液中,與使用純水的情況相比,發(fā)現(xiàn)能夠更高效率地去除將晶片制成細(xì)片而產(chǎn)生的切片屑,但除此之外的物質(zhì)仍然附著并殘留在器件上,存在無(wú)法完全去除的物質(zhì)。
最初尚不明確這樣的現(xiàn)象的起因,但進(jìn)行各種研究后發(fā)現(xiàn)了如下事實(shí)。
將晶片切片的情況下,晶片貼附于粘合性樹(shù)脂片材(切片膠帶),進(jìn)一步將該切片膠帶固定在晶片框架上進(jìn)行切片處理。進(jìn)行該切片處理時(shí),切片刀片沿著劃片道而切斷為各器件,但該切片刀片的刀刃以略微進(jìn)入貼附晶片的切片膠帶的粘合劑層的方式進(jìn)行切斷。此時(shí)切片刀片的刀刃帶起粘合劑層的粘合劑,以微細(xì)片的形式分散,發(fā)現(xiàn)這樣的微細(xì)片有時(shí)附著在器件的表面上。
特別地,照相機(jī)中使用的照相元件(圖像傳感器)中,在器件(芯片)的表面的透鏡上即使少量附著如上所述的切片屑、粘合劑的微細(xì)片,作為元件的性能降低,成為不良率上升的主要原因,因此期望用于避免這樣的附著的進(jìn)一步改良。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)
專(zhuān)利文獻(xiàn)1:日本專(zhuān)利第5253765號(hào)公報(bào)。
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題
如上所述,期望能夠有效地去除不僅在切片步驟中由晶片產(chǎn)生的切片屑、還有認(rèn)為與此相比造成更負(fù)面影響的由切片膠帶的粘合劑層產(chǎn)生的粘合劑的微細(xì)片的切片加工用制劑和加工用處理液,希望得到這樣的物質(zhì)。
此外,切片加工中,在施加大量純水的同時(shí)進(jìn)行,因此需要大量的純水而非常耗費(fèi)成本,進(jìn)一步因過(guò)量用水而有時(shí)存在對(duì)本地居民的生活用水造成影響的擔(dān)憂。
用于解決問(wèn)題的手段
本發(fā)明中,制成了切片加工用制劑,其在純水中含有聚合度為200~400且皂化度為75~85摩爾%的部分皂化聚乙烯醇1.0~1.5質(zhì)量%、和聚氧亞乙基與聚氧亞丙基的聚合數(shù)比為75:25~85:15且數(shù)均分子量為10000~20000的聚氧亞乙基聚氧亞丙基二醇醚0.4~0.6質(zhì)量%。
此外,該加工用制劑中,可以進(jìn)一步含有0.1質(zhì)量%左右的苯基乙二醇。
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H01L21-00 專(zhuān)門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
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H01L21-64 .非專(zhuān)門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專(zhuān)門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專(zhuān)門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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