[發明專利]電極箔含硼清洗廢水處理系統及其處理工藝

在審

• 申請號: 201910808620.0
• 申請日: 2019-08-29
• 公開（公告）號: CN110482742A
• 公開（公告）日: 2019-11-22
• 發明（設計）人: 張懷志;劉建珂;龍科;徐浩宏
• 申請（專利權）人: 深圳中拓天達環境工程有限公司
• 主分類號: C02F9/04
• 分類號: C02F9/04;B01D61/58;B01D65/02;B01D65/06;C02F101/10
• 代理公司: 44414 深圳中一聯合知識產權代理有限公司
• 代理人: 汪海琴<國際申請>=<國際公布>=<進入

1.電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，包括：

超濾系統，用于接入含硼清洗廢水，并過濾掉含硼清洗廢水中的懸浮顆粒；

兩級反滲透系統，接收經過所述超濾系統過濾之后的超濾液，用于將所述超濾液進行脫鹽處理；

清洗系統，用于定時清洗所述超濾系統及所述兩級反滲透系統；

加藥系統，用于加入化學藥物以輔助所述超濾系統、所述兩級反滲透系統及所述清洗系統的工作，以及用于平衡所述兩級反滲透系統的進水指標；

其中，所述超濾系統包括多個并列設置的柱式超濾膜，所述柱式超濾膜為中空纖維超濾膜。

2.如權利要求1所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述柱式超濾膜為內壓式結構，所述柱式超濾膜具有廢水輸入端、濃縮液端、第一超濾液端及第二超濾液端；所述廢水輸入端用于接入含硼清洗廢水，所述第一超濾液端及第二超濾液端分別用于輸出超濾液，所述濃縮液端用于與濃縮池連接。

3.如權利要求2所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述兩級反滲透系統包括依次設置的一級反滲透組件及二級反滲透組件；所述加藥系統包括用于在含硼清洗廢水進入所述柱式超濾膜之前加入殺菌劑的第一加藥結構，用于在中間水箱中加入還原劑的第二加藥結構，用于在所述柱式超濾膜進行清洗時加入化學藥物的第三加藥結構，以及用于在超濾液進入所述一級反滲透組件之前加入阻垢劑的第四加藥結構。

4.如權利要求3所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述清洗系統包括第一清洗組件；

所述第一清洗組件包括連接于所述中間水箱與所述第二超濾液端的反洗管道，設于所述反洗管道上的反洗閥及反洗泵，連接于所述廢水輸入端與濃縮液端之間的快洗管道，以及設于所述快洗管道上的快沖閥；

所述第三加藥結構連接于所述反洗泵與所述第一超濾液端之間，所述第一超濾液端通過產水閥與所述中間水箱連接。

5.如權利要求4所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述清洗系統還包括第二清洗組件；

所述第二清洗組件包括清洗進口、清洗進口閥、進水管道、兩清洗出口、兩清洗出口閥及兩出水管道，所述進水管道與所述一級反滲透組件的一級進水端連接，所述清洗進口及清洗進口閥均設于所述進水管道上，兩所述出水管道分別連接于所述一級純水端及所述一級濃水端，兩所述清洗出口及兩所述清洗出口閥分別設于兩所述出水管道上。

6.如權利要求3所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述一級反滲透組件與所述中間水箱之間連接有用于去除濁度高于1度的細小顆粒的保安過濾器，所述第四加藥結構設于所述一級反滲透組件的進水管上；

所述保安過濾器與所述一級反滲透組件之間設有第一高壓泵，一級產水箱與所述二級反滲透組件之間設有第二高壓泵。

7.如權利要求6所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述一級反滲透組件還具有一級濃水端，所述一級濃水端用于輸出濃縮水并可與濃水箱連接或將濃縮液回流至所述中間水箱；

所述二級反滲透組件還具有二級濃水端，所述二級濃水端用于輸出濃縮水并可與濃水箱連接或將濃縮液回流至所述中間水箱。

8.如權利要求3所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述一級反滲透組件包括多個并列設置的一級反滲透膜元件，所述二級反滲透組件包括多個并列設置的二級反滲透膜元件。

9.如權利要求1所述的電極箔含硼清洗廢水處理系統，其特征在于，所述電極箔含硼清洗廢水處理系統還包括PLC控制柜，所述PLC控制柜分別與所述超濾系統、兩級反滲透系統、清洗系統及加藥系統電連接，所述PLC控制柜用于控制所述超濾系統、兩級反滲透系統、清洗系統及加藥系統工作順序。