[發(fā)明專利]激光器有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910808165.4 | 申請日: | 2019-08-29 |
| 公開(公告)號: | CN112448258B | 公開(公告)日: | 2022-06-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 喬山;曾志男;梁曉燕 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所 |
| 主分類號: | H01S3/094 | 分類號: | H01S3/094;H01S3/09;H01S3/23 |
| 代理公司: | 上海泰博知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31451 | 代理人: | 錢文斌 |
| 地址: | 200050 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 激光器 | ||
1.一種激光器,其特征在于,所述激光器至少包括:
介質(zhì),具有能量由低到高的基態(tài)、中間態(tài)及激發(fā)態(tài),其中,所述激發(fā)態(tài)為單個、多個或連續(xù)的能態(tài);
激勵系統(tǒng),用于將所述介質(zhì)中的電子從所述基態(tài)激發(fā)至所述中間態(tài),所述激勵系統(tǒng)包括電磁場激勵系統(tǒng)或電子槍激勵系統(tǒng);
激勵激光器,用于將所述介質(zhì)中處于不同空間位置的所述中間態(tài)的電子以固定的位相關(guān)系通過受激輻射過程退激至所述基態(tài),發(fā)出相干光子,以形成激光,其中,所述受激輻射過程有兩種途徑,第一種途徑是將所述中間態(tài)的電子激發(fā)至所述激發(fā)態(tài)并退激到所述基態(tài),第二種途徑是從所述中間態(tài)直接退激到所述基態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其特征在于:所述激光器為深紫外激光器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其特征在于:所述中間態(tài)為亞穩(wěn)態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其特征在于:所述介質(zhì)包括氣體、液體或固體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光器,其特征在于:所述介質(zhì)包括氦氣、氖氣、氬氣、氪氣或氙氣。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光器,其特征在于:所述介質(zhì)為氦氣,所述中間態(tài)的能量為20.616eV。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其特征在于:所述電磁場激勵系統(tǒng)包括靜電磁場激勵系統(tǒng)、脈沖電磁場激勵系統(tǒng)、交流電磁場激勵系統(tǒng)或微波激勵系統(tǒng)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光器,其特征在于:所述激勵激光器包括可見光連續(xù)激光器、可見光脈沖激光器、紅外光連續(xù)激光器、紅外光脈沖激光器、紫外光連續(xù)激光器或紫外光脈沖激光器。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的激光器,其特征在于:所述激勵激光器的波長包括329.86nm、335.60nm、344.90nm、361.52nm、396.67nm、501.6nm、2058.7nm或不大于311.23nm。
10.一種N級級聯(lián)式激光器,其特征在于,所述N級級聯(lián)式激光器至少包括第一級激光器及后續(xù)的N-1級激光器;
所述第一級激光器為權(quán)利要求1-9中任意一項所述激光器;
后續(xù)的第i級激光器,包括:
第i級介質(zhì),具有能量由低到高的基態(tài)、中間態(tài)及激發(fā)態(tài),所述激發(fā)態(tài)為單個、多個或連續(xù)的能態(tài);
第i級激勵系統(tǒng),用于將所述第i級介質(zhì)中的電子從所述基態(tài)激發(fā)至所述中間態(tài);
第i級激勵激光器,所述第i級激勵激光器為第i-1級激光器,所述第i級激勵激光器產(chǎn)生的激光,用于將所述第i級介質(zhì)中處于不同空間位置的所述中間態(tài)的電子以固定的位相關(guān)系通過受激輻射過程退激至所述基態(tài),發(fā)出相干光子,以形成第i級激光,所述受激輻射過程有兩種途徑,第一種途徑是將所述中間態(tài)的電子激發(fā)至所述激發(fā)態(tài)并退激到所述基態(tài),第二種途徑是從所述中間態(tài)直接退激到所述基態(tài);
其中,N為大于等于2的整數(shù),i為大于等于2且小于等于N的整數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所,未經(jīng)中國科學院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910808165.4/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01S 利用受激發(fā)射的器件
H01S3-00 激光器,即利用受激發(fā)射對紅外光、可見光或紫外線進行產(chǎn)生、放大、調(diào)制、解調(diào)或變頻的器件
H01S3-02 .結(jié)構(gòu)零部件
H01S3-05 .光學諧振器的結(jié)構(gòu)或形狀;包括激活介質(zhì)的調(diào)節(jié);激活介質(zhì)的形狀
H01S3-09 .激勵的方法或裝置,例如泵激勵
H01S3-098 .模式鎖定;模式抑制
H01S3-10 .控制輻射的強度、頻率、相位、極化或方向,例如開關(guān)、選通、調(diào)制或解調(diào)





