[發明專利]一種跨尺度的熒光內窺成像系統

有效

• 申請號: 201910794851.0
• 申請日: 2019-08-27
• 公開（公告）號: CN110464309B
• 公開（公告）日: 2021-12-17
• 發明（設計）人: 嚴偉;孔金星;郭勇;屈軍樂;邵永紅;顧月清
• 申請（專利權）人: 深圳大學
• 主分類號: A61B5/00
• 分類號: A61B5/00
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312
• 代理人: 李倩竹

1.一種跨尺度的熒光內窺成像系統，其特征在于，所述系統包括：照明單元及顯微成像單元；

其中，所述顯微成像單元宏包括：宏觀光譜分析單元、介觀成像單元及微觀高分辨成像單元；

所述照明單元用于發射第一激發光和/或第二激發光，及將所述第一激發光和/或所述第二激發光分別傳輸至所述宏觀光譜分析單元、所述介觀成像單元及所述微觀高分辨成像單元；

所述宏觀光譜分析單元用于獲取入射的所述第一激發光或所述第二激發熒光樣品產生的第一熒光信號，并根據所述第一熒光信號生成熒光樣品的熒光光譜圖；

所述介觀成像單元用于基于所述熒光光譜獲取入射的所述第一激發光或所述第二激發光激發所述熒光樣品產生的第二熒光信號，并根據所述第二熒光信號獲取所述熒光樣品的介觀分布圖像；

所述微觀高分辨成像單元用于基于所述介觀分布圖像獲取入射的所述第一激發光和所述第二激發光激發所述熒光樣品第三熒光信號，并根據所述第三熒光信號進行高分辨率成像，以得到用于實時觀察所述熒光樣品的納米藥物熒光圖、納米殼熒光圖及細胞膜分布圖。

2.如權利要求1所述一種跨尺度的熒光內窺成像系統，其特征在于，所述照明單元包括：光源組件和主光路系統；

所述光源組件包括：第一半導體連續激光器和第二半導體連續激光器；

所述主光路系統包括：第一反光鏡、第一雙色鏡、第一調節玻片、第一分光棱鏡、第二調節玻片、第二分光棱鏡及第二反光鏡；

所述第一半導體連續激光器發出的所述第一激發光依次經過所述第一雙色鏡、所述第一調節玻片、所述第一分光棱鏡、所述第二調節玻片、所述第二分光棱鏡及所述第二反光鏡；

所述第二半導體連續激光器發出的所述第二激發光依次經過所述第一反光鏡、所述第一雙色鏡、所述第一調節玻片、所述第一分光棱鏡、所述第二調節玻片、所述第二分光棱鏡及所述第二反光鏡；

其中，所述第一分光棱鏡用于將所述第一激發光或所述第二激發光分光傳輸至所述宏觀光譜分析單元，及將所述第一激發光或所述第二激發光依次傳輸至所述第二調節玻片；

其中，所述第二分光棱鏡用于將所述第一激發光或所述第二激發光分光傳輸至所述介觀成像單元，及將所述第一激發光或所述第二激發光傳輸至所述第二反光鏡；

其中，所述第二反光鏡用于將所述第一激發光和所述第二激發光傳輸至所述微觀高分辨成像單元。

3.如權利要求2所述一種跨尺度的熒光內窺成像系統，其特征在于，所述光源組件還包括：第一電動擋光板和第二電動擋光板；

所述第一電動擋光板位于所述第一半導體連續激光器與所述第一雙色鏡之間；

所述第二電動擋光板位于所述第二半導體連續激光器與所述第一反光鏡之間。

4.如權利要求2所述一種跨尺度的熒光內窺成像系統，其特征在于，所述宏觀光譜分析單元包括：第二雙色鏡、第一透鏡、第一光纖束、第一濾波片、第二透鏡及熒光光譜儀；

所述第一分光棱鏡用于將所述第一激發光或所述第二激發光傳輸至所述第二雙色鏡；

所述第二雙色鏡用于將所述第一激發光或所述第二激發光傳輸至所述第一透鏡；

所述第一透鏡用于將預設波長的所述第一激發光或所述第二激發光耦合進所述第一光纖束；

所述第一光纖束用于將所述第一激發光或所述第二激發光傳輸至熒光樣品處，及通過第一光纖束的端口收集所述第一激發光或所述第二激發光對所述熒光樣品激發后得到的第一熒光信號，且將收集后的所述第一熒光信號依次傳輸至所述第一光纖束、所述第一透鏡及所述第二雙色鏡；

所述第二雙色鏡用于將所述熒光信號與所述第一激發光或所述第二激發光進行分離，并將所述第一熒光信號全反射傳輸至所述第一濾波片；

所述第一濾波片用于將所述第一熒光信號進行濾波處理，并將過濾后的所述第一熒光信號傳輸至所述第二透鏡；

所述第二透鏡用于將過濾后的所述第一熒光信號傳輸至所述熒光光譜儀，以得到熒光光譜圖。