[發(fā)明專利]鼻腔嗅裂區(qū)滴藥頭位裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910792811.2 | 申請日: | 2019-08-26 |
| 公開(公告)號: | CN110339468A | 公開(公告)日: | 2019-10-18 |
| 發(fā)明(設計)人: | 魏永祥;武大偉;蘇百晗;孫智甫 | 申請(專利權(quán))人: | 首都醫(yī)科大學附屬北京安貞醫(yī)院 |
| 主分類號: | A61M31/00 | 分類號: | A61M31/00 |
| 代理公司: | 北京智信四方知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11519 | 代理人: | 呂雁葭;宋海龍 |
| 地址: | 100029*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 標識單元 滴藥頭 鼻腔 底面傾斜 底面 頂面 側(cè)面 | ||
本公開實施例公開了一種鼻腔嗅裂區(qū)滴藥頭位裝置,包括頂面、底面和至少一個側(cè)面,其特征在于:所述頂面相對于所述底面傾斜;在所述頂面上設置有第一標識單元、第二標識單元和第三標識單元。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及醫(yī)療用具領(lǐng)域,具體涉及一種鼻腔嗅裂區(qū)滴藥頭位裝置。
背景技術(shù)
嗅覺障礙嚴重影響患者的生活質(zhì)量。因嗅裂區(qū)位于鼻腔頂部,解剖結(jié)構(gòu)狹窄且位置隱蔽,常規(guī)鼻腔滴藥方法難以將藥物準確遞送至上部嗅裂區(qū)。常規(guī)鼻腔滴藥體位采用直立位或垂頭仰臥位(將頭伸出床沿下垂或肩下墊枕頭),往往使液態(tài)藥劑沿鼻腔側(cè)壁經(jīng)中鼻道甚至總鼻道流入咽喉部,而使得藥物在嗅裂區(qū)存留較少,從而起不到嗅裂區(qū)治療作用或收效甚微。此外,傳統(tǒng)的鼻腔噴劑也往往因下鼻甲肥大、鼻中隔偏曲、泡狀中鼻甲等解剖結(jié)構(gòu)異常阻擋藥物噴送至嗅裂區(qū)。因此,提高嗅裂區(qū)藥物遞送效率是解決這一問題的關(guān)鍵。
有研究結(jié)果顯示,患者取側(cè)臥位,面部向天空方向轉(zhuǎn)動20°-30°,同時下頜抬高并高于額頭20°-30°,此時將液態(tài)藥劑滴于上側(cè)鼻孔的鼻腔頂壁,可以使藥物在重力的作用下沿鼻腔頂壁與鼻中隔的夾角流入嗅裂區(qū),但這個特殊體位的維持及鼻腔頂壁滴藥的位置對患者來說不易掌握,故此方法在在嗅覺障礙患者嗅裂區(qū)給藥中存在局限性。
目前,市場上沒有針對維持鼻腔嗅裂區(qū)給藥時患者特殊體位的裝置,現(xiàn)有的各類鼻腔噴藥裝置設計思路為通過可調(diào)整角度的噴頭使藥劑可以在鼻腔內(nèi)多方向遞送,而患者的頭部位置實際上只能由醫(yī)師手工固定或患者自行維持,頭位角度難以確定,給藥效果不佳,也容易造成患者不適。對于身體衰弱或有其他疾病的患者而言,扭轉(zhuǎn)并維持這樣的頭位更是一件十分困難的事。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決相關(guān)技術(shù)中的問題,本公開實施例提供一種鼻腔嗅裂區(qū)滴藥頭位裝置。
具體地,所述鼻腔嗅裂區(qū)滴藥頭位裝置,包括:頂面、底面和至少一個側(cè)面,其特征在于:
所述頂面相對于所述底面傾斜;
在所述頂面上設置有第一標識單元、第二標識單元和第三標識單元。
可選地,所述頂面相對于所述底面的傾斜角度在20度到30度之間。
可選地,所述第一標識單元、所述第二標識單元和所述第三標識單元中的任一標識單元包括與所述頂面較低一側(cè)的邊緣垂直的標識條帶,其中,所述頂面較低一側(cè)的邊緣是所述頂面最靠近所述底面的邊緣。
可選地,所述第一標識單元、所述第二標識單元和所述第三標識單元中的任一標識單元包括多個凸起物,所述多個凸起物的中心連線與所述頂面較低一側(cè)的邊緣垂直,其中,所述頂面較低一側(cè)的邊緣是所述頂面最靠近所述底面的邊緣。
可選地,所述第一標識單元、所述第二標識單元和所述第三標識單元中的任一標識單元包括一個或多個凸起物,所述一個或多個凸起物的軸線與所述頂面較低一側(cè)的邊緣垂直,其中,所述頂面較低一側(cè)的邊緣是所述頂面最靠近所述底面的邊緣。
可選地,所述第一標識單元位于所述頂面中部;
所述第二標識單元和所述第三標識單元分別與所述第一標識單元平行設置,并對稱分布于所述第一標識單元兩側(cè)。
可選地,所述第二標識單元的位置對應于人體從側(cè)臥狀態(tài)在保持軀干不動的情況下頭部向左轉(zhuǎn)動20度到30度之間的預定角度后耳孔所在的位置,其中,在所述側(cè)臥狀態(tài)下,人體中軸線平行于所述第一標識單元,肩部靠近所述頂面較高一側(cè)的邊緣,頭頂靠近頂面較低一側(cè)的邊緣,耳孔放置于第一標識單元上,其中,所述頂面較高一側(cè)的邊緣是所述頂面最遠離所述底面的邊緣。
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