[發(fā)明專利]一種揭膜預(yù)處理機(jī)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910787501.1
• 申請日: 2019-08-23
• 公開（公告）號: CN110419368A
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 周建云;刁朝強(qiáng);黃寧;廖勇;李余江
• 申請（專利權(quán)）人: 貴州省煙草公司貴陽市公司
• 主分類號: A01G13/02
• 分類號: A01G13/02
• 代理公司: 貴陽中新專利商標(biāo)事務(wù)所 52100
• 代理人: 張行超

本發(fā)明公開了一種揭膜預(yù)處理機(jī)，包括：推車，所述推車包括車架，所述車架前端轉(zhuǎn)動安裝兩個輪子，所述車架后端固定連接推手；掃土裝置，所述掃土裝置固定安裝在車架上；灑水裝置，所述灑水裝置安裝在輪子與掃土裝置之間的車架上。以解決現(xiàn)有技術(shù)不能在澆水的同時清掃泥土，清理地膜表面覆蓋的泥土的清掃效率極低的問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及農(nóng)業(yè)種植技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種揭膜預(yù)處理機(jī)。

背景技術(shù)

作物收割以后，田地里的地膜需要回收，因為地膜殘留會使植物根的生長受到抑制；塑料在土壤中及難降解，還有釋放出塑化劑，被植物吸收會，影響食品安全；殘留的地膜會改變土壤微生物的群落結(jié)構(gòu)組成，破壞土壤微生物生態(tài)。現(xiàn)有的地膜回收需要人工先將地膜表面覆蓋的泥土清理干凈，然后再將地膜揭開，因為如果不清理地膜表面覆蓋的泥土?xí)沟啬ぶ亓繒浅４螅业啬r會撕壞地膜，并且工作負(fù)擔(dān)非常大。現(xiàn)有清理地膜表面覆蓋的泥土的方法采用人工掃把清掃，但是地膜在天晴的時候會板結(jié)成塊，需要先在泥土上澆水使泥土松散以后才能使用掃把清掃，現(xiàn)有的設(shè)備不能在澆水的同時清掃泥土，清掃效率極低。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決以上現(xiàn)有技術(shù)的缺點和不足之處，本發(fā)明的首要目的是提供一種揭膜預(yù)處理機(jī)。

本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種揭膜預(yù)處理機(jī)，包括：

推車，所述推車包括車架，所述車架前端轉(zhuǎn)動安裝兩個輪子，所述車架后端固定連接推手；

掃土裝置，所述掃土裝置固定安裝在車架上；

灑水裝置，所述灑水裝置安裝在輪子與掃土裝置之間的車架上。

還包括：

第一直角轉(zhuǎn)向器，所述第一直角轉(zhuǎn)向器與輪子的轉(zhuǎn)軸連接，所述第一直角轉(zhuǎn)向器與掃土裝置連接。

所述掃土裝置包括：

第二直角轉(zhuǎn)向器，所述第二直角轉(zhuǎn)向器固定安裝在車架上，所述第二直角轉(zhuǎn)向器與第一直角轉(zhuǎn)向器通過轉(zhuǎn)軸連接；

第三直角轉(zhuǎn)向器，所述第三直角轉(zhuǎn)向器固定安裝在第二直角轉(zhuǎn)向器側(cè)部的車架下部，所述第三直角轉(zhuǎn)向器與第二直角轉(zhuǎn)向器通過轉(zhuǎn)軸連接；

第一等速萬向節(jié)，所述第一等速萬向節(jié)上端連接第三直角轉(zhuǎn)向器，所述第一等速萬向節(jié)下端連接清掃盤；

第一定位器，所述第一定位器設(shè)有與第一等速萬向節(jié)下端轉(zhuǎn)軸相匹配的第一套筒，所述第一套筒套在第一等速萬向節(jié)下端轉(zhuǎn)軸上，所述第一等速萬向節(jié)通過第一定位器與車架連接；

第一清掃盤，所述第一清掃盤為圓盤狀，所述第一清掃盤位于第三直角轉(zhuǎn)向器所在的車架側(cè)部，所述第一清掃盤下表面朝車架中心線下方傾斜。

所述掃土裝置還包括：

第四直角轉(zhuǎn)向器，所述第四直角轉(zhuǎn)向器固定安裝在第二直角轉(zhuǎn)向器側(cè)部的車架下部，所述第四直角轉(zhuǎn)向器與第三直角轉(zhuǎn)向器不在同一側(cè)，所述第四直角轉(zhuǎn)向器與第二直角轉(zhuǎn)向器通過轉(zhuǎn)軸連接；

第二等速萬向節(jié)，所述第二等速萬向節(jié)上端連接第四直角轉(zhuǎn)向器，所述第二等速萬向節(jié)下端連接第二清掃盤；

第二定位器，所述第二定位器設(shè)有與第二等速萬向節(jié)下端轉(zhuǎn)軸相匹配的第二套筒，所述第二套筒套在第二等速萬向節(jié)下端轉(zhuǎn)軸上，所述第二等速萬向節(jié)通過第二定位器與車架連接；

第二清掃盤，所述第二清掃盤為圓盤狀，所述第二清掃盤位于第四直角轉(zhuǎn)向器所在的車架側(cè)部，所述第二清掃盤下表面朝車架中心線下方傾斜。

所述第一定位器還包括：