[發(fā)明專利]一種基于軟件仿真緊縮場暗室設計方法

有效

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• 申請日: 2019-08-23
• 公開（公告）號: CN110489886B
• 公開（公告）日: 2022-07-26
• 發(fā)明（設計）人: 王道祥;梁春武;周忠勇
• 申請（專利權）人: 無錫飛譜電子信息技術有限公司
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20;G01S7/40
• 代理公司: 淮安睿合知識產(chǎn)權代理事務所(普通合伙) 32372
• 代理人: 趙霎

本發(fā)明涉及雷達技術領域，尤其涉及一種基于軟件仿真緊縮場暗室設計方法，包括在軟件仿真平臺構建暗室，測試空暗室的電磁場能量值E₀；測試標準體在暗室環(huán)境中的電磁場能量值E₁；測試待測目標在暗室環(huán)境中的電磁場能量值E₂；最后計算待測目標的RCS。根據(jù)待測目標的RCS和實際的RCS的偏差，調整暗室的參數(shù)，直至待測目標的RCS和實際的RCS的偏差在一定范圍內，根據(jù)調整后暗室的參數(shù)建造實際暗室。本發(fā)明借助軟件仿真技術在暗室制造前計算待測目標的RCS值，可以檢驗暗室的設計是否滿足實際的RCS指標標準，方法簡單，大大降低了微波暗室設計的時間和成本要求，提高了暗室設計的質量。

技術領域

本發(fā)明涉及雷達技術領域，尤其涉及一種基于軟件仿真緊縮場暗室設計方法。

背景技術

隨著微波測試儀器日新月異的進步，雷達散射截面(RCS)測量技術已經(jīng)發(fā)展到了一個相當高的水平。除了常規(guī)的室內、室外測量以外，利用拋物面緊縮場進行縮距測量均已發(fā)展到相當成熟的階段，而且正在向著更高的測量精度和更完善的測試功能發(fā)展。

微波暗室包括屏蔽室、吸波材料等組成，屏蔽室由屏蔽殼體、屏蔽門、通風波導窗各類電源濾波器等組成，為了使微波暗室滿足測試要求，需要前期的設計和后期的制造，需要投入人力和物力，成本高。

發(fā)明內容

本發(fā)明提供了一種緊縮場RCS軟件測量方法，通過測試待測目標的RCS值，為微波暗室的建造提供了科學依據(jù)。

為了實現(xiàn)本發(fā)明的目的，所采用的技術方案是：一種基于軟件仿真緊縮場暗室設計方法，包括如下步驟：

1)在軟件仿真平臺構建暗室；

2)測試空暗室的電磁場能量值E₀；

3)測試標準體在暗室環(huán)境中的電磁場能量值E₁；

4)測試待測目標在暗室環(huán)境中的電磁場能量值E₂；

5)根據(jù)公式1計算待測目標的RCS:

RCS＝[(E₂-E₀)/(E₁-E₀)]×rcs 公式1

其中：rcs為標準體的RCS；

6)根據(jù)步驟5)待測目標的RCS和實際的RCS的偏差，調整暗室的參數(shù)，直至待測目標的RCS和實際的RCS的偏差在一定范圍內，根據(jù)調整后暗室的參數(shù)建造實際暗室。

作為本發(fā)明的優(yōu)化方案，標準體為金屬球體或者金屬板。

作為本發(fā)明的優(yōu)化方案，待測目標放置在靜區(qū)，靜區(qū)由天線發(fā)射的電磁波經(jīng)拋物面反射后呈平面波射出形成。

本發(fā)明具有積極的效果：本發(fā)明借助軟件仿真技術在暗室制造前計算待測目標的RCS值，可以檢驗暗室的設計是否滿足實際的RCS指標標準，方法簡單，大大降低了微波暗室設計的時間和成本要求，提高了暗室設計的質量。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進一步詳細的說明。

圖1是本發(fā)明的整體流程圖；

圖2是單反射面緊縮場原理圖。

具體實施方式

如圖1所示，本發(fā)明公開了一種緊縮場RCS軟件測量方法，包括如下步驟：