[發(fā)明專利]提供光刻系統(tǒng)射線的設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910773199.4
• 申請(qǐng)日: 2019-08-21
• 公開（公告）號(hào): CN110865517A
• 公開（公告）日: 2020-03-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 廖啟宏;楊岳霖
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 張福根;付文川

1.一種提供光刻系統(tǒng)射線的設(shè)備，包括：

一第一衰減單元，包括：

一第一殼體，具有一第一進(jìn)入口、一第一反射出口、以及一第一透射出口；以及

一第一反射鏡，設(shè)置于該第一殼體中，其中該第一反射鏡被定位以從該第一進(jìn)入口接收一第一光束，將該第一光束的一第一反射部分反射到該第一反射出口，以及將該第一光束的一第一透射部分傳輸?shù)皆摰谝煌干涑隹冢?/p>

一第一光刻機(jī)臺(tái)；以及

一第一光學(xué)導(dǎo)管，連接該第一反射出口以及該第一光刻機(jī)臺(tái)，以引導(dǎo)來自該第一衰減單元的該第一光束的該第一反射部分。