[發(fā)明專利]量子點(diǎn)彩膜及顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910768661.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-20 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110568654A | 公開(公告)日: | 2019-12-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 徐曉波;馬卜;邢澤詠;王允軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 蘇州星爍納米科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/1335 | 分類號(hào): | G02F1/1335;G02F1/13357;H01L27/32;H01L51/52 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215123 江蘇省蘇州市工業(yè)*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 量子點(diǎn) 聚合物層 像素開口 低折射率層 彩膜 黑矩陣 折射率 內(nèi)壁 透明基板表面 聚合物基質(zhì) 透明基板 顯示裝置 發(fā)射光 光轉(zhuǎn)換 減小 申請(qǐng) 吸收 | ||
1.一種量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,包括:
透明基板;
設(shè)置在所述透明基板表面上的具有多個(gè)像素開口的黑矩陣;
至少部分所述像素開口中含有量子點(diǎn)聚合物層,所述量子點(diǎn)聚合物層包括聚合物基質(zhì)和分散在所述聚合物基質(zhì)中的量子點(diǎn);
所述含有量子點(diǎn)聚合物層的像素開口的內(nèi)壁具有低折射率層;
所述量子點(diǎn)聚合物層的折射率大于所述低折射率層的折射率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,所述低折射率層包括高分子材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,所述聚合物基質(zhì)的折射率大于所述高分子材料的折射率。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,所述低折射率層的厚度在50-200納米之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,所述量子點(diǎn)聚合物層的厚度與所述像素開口的深度基本相等。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,所述量子點(diǎn)聚合物層與所述透明基板之間還設(shè)置有濾色層。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,所述量子點(diǎn)聚合物層的遠(yuǎn)離所述透明基板的一側(cè)設(shè)置有封裝層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述量子點(diǎn)彩膜,其特征在于,所述像素開口中的量子點(diǎn)聚合物層包括發(fā)射第一種光的第一部,和發(fā)射第二種光的第二部。
9.顯示裝置,其特征在于,包括:
背光單元,以及如權(quán)利要求1至8中任一所述的量子點(diǎn)彩膜,和介于所述背光單元與所述量子點(diǎn)彩膜之間的液晶層。
10.顯示裝置,其特征在于,包括:
具有多個(gè)像素區(qū)域的基板;
電致發(fā)光器件,位于所述像素區(qū)域中;
以及,面對(duì)所述基板的如權(quán)利要求1至8中任一所述的量子點(diǎn)彩膜,所述量子點(diǎn)彩膜的像素開口與所述基板的像素區(qū)域?qū)?yīng)設(shè)置。
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





