[發(fā)明專利]一種顯示面板的制造方法以及掩模板

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910767474.1
• 申請(qǐng)日: 2019-08-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112420966A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳婷
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海和輝光電有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/56
• 分類號(hào): H01L51/56;C23C14/04
• 代理公司: 上海隆天律師事務(wù)所 31282
• 代理人: 崔祥;鐘宗

1.一種掩模板，其特征在于，所述掩模板具有在蒸鍍工藝中朝向基板的第一表面和背離所述基板的第二表面，所述基板設(shè)有像素定義層，所述像素定義層具有多個(gè)開(kāi)口區(qū)域，所述像素定義層位于各個(gè)所述開(kāi)口區(qū)域之間的表面設(shè)有支撐凸起，所述掩模板包括：

多個(gè)開(kāi)口部，與所述掩模板的所述開(kāi)口部相對(duì)應(yīng)的待蒸鍍的開(kāi)口區(qū)域相鄰的所述支撐凸起和所述基板的第一表面相抵觸；

多個(gè)凹陷部，每個(gè)所述凹陷部自所述掩模板的第一表面向背離所述基板的一側(cè)凹陷，每一所述凹陷部的表面和一個(gè)與待蒸鍍的所述開(kāi)口區(qū)域不相鄰的所述支撐凸起相對(duì)并且相間隔。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述凹陷部包括半球形凹陷部、圓柱形凹陷部、球冠形凹陷部或矩形凹陷部。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，在所述掩模板中所述凹陷部以外的局部第一表面設(shè)有緩沖膜，所述緩沖膜的表面與對(duì)應(yīng)的所述支撐凸起相抵觸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述凹陷部的深度大于等于所述像素定義層的厚度與所述支撐凸起的高度之和。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板的厚度大于30um。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的掩模板，其特征在于，述支撐凸起的高度為0.5～2.45um。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，位于待蒸鍍的所述開(kāi)口區(qū)域兩側(cè)的相鄰的所述支撐凸起之間的間距大于等于所述開(kāi)口部的寬度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模板，其特征在于，待蒸鍍的所述開(kāi)口區(qū)域包括第一開(kāi)口區(qū)域，其它的所述開(kāi)口區(qū)域包括第二開(kāi)口區(qū)域和第三開(kāi)口區(qū)域，其中，所述第一開(kāi)口區(qū)域用于形成紅色子像素，所述第二開(kāi)口區(qū)域用于形成綠色子像素，所述第三開(kāi)口區(qū)域用于形成藍(lán)色子像素。

9.一種顯示面板的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供一基板，所述基板設(shè)有像素定義層，所述像素定義層具有多個(gè)對(duì)應(yīng)N種顏色發(fā)光材料的開(kāi)口區(qū)域，所述像素定義層位于各個(gè)所述開(kāi)口區(qū)域之間的表面設(shè)有支撐凸起；

提供N道如權(quán)利要求1中所述的掩模板，每道掩模板各自的開(kāi)口部分別對(duì)應(yīng)一種顏色發(fā)光材料的所有的所述開(kāi)口區(qū)域，通過(guò)所述N道掩模板分別向所述基板的所述開(kāi)口區(qū)域蒸鍍對(duì)應(yīng)顏色發(fā)光材料；

在每道所述掩模板的蒸鍍過(guò)程中，對(duì)應(yīng)待蒸鍍發(fā)光材料的所述掩模板的所述開(kāi)口部的所述支撐凸起和所述基板的第一表面相抵觸；所述掩模板的凹陷部的表面與其它發(fā)光材料對(duì)應(yīng)的所述開(kāi)口區(qū)域相鄰的所述支撐凸起相對(duì)并且間隔設(shè)置。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述基板的每個(gè)支撐凸起僅與N道所述掩模板中的一道所述掩模板的所述第一表面接觸一次。