[發(fā)明專利]一種氫氧化鋰制備系統(tǒng)及工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910765509.8
• 申請日: 2019-08-19
• 公開（公告）號: CN110467204A
• 公開（公告）日: 2019-11-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔣英;李軍
• 申請（專利權(quán)）人: 浙江華美新能源科技有限公司
• 主分類號: C01D15/02
• 分類號: C01D15/02
• 代理公司: 33325 湖州長興西木子知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙)
• 代理人: 李開騰<國際申請>=<國際公布>=<進(jìn)入

1.一種氫氧化鋰制備系統(tǒng)，包括反應(yīng)設(shè)備(Ⅰ)，圍繞該反應(yīng)設(shè)備(Ⅰ)，其周邊分布設(shè)置有與其連通的供氣設(shè)備(Ⅱ)、供液設(shè)備(Ⅲ)、混料設(shè)備(Ⅳ)及苛化反應(yīng)設(shè)備(Ⅴ)，該苛化反應(yīng)設(shè)備(Ⅴ)與結(jié)晶設(shè)備(Ⅵ)連通，其特征在于，所述反應(yīng)設(shè)備(Ⅰ)包括：

反應(yīng)箱(1)，所述反應(yīng)箱(1)包括通過豎直設(shè)置的隔板(10)分隔形成的第一反應(yīng)室(11)及第二反應(yīng)室(12)，該第一反應(yīng)室(11)與第二反應(yīng)室(12)的頂部連通，所述供液設(shè)備(Ⅲ)向所述第一反應(yīng)室(11)內(nèi)輸入蒸餾水與EDTA的混合溶液，且其向所述第二反應(yīng)室(12)內(nèi)輸入蒸餾水；

噴淋機(jī)構(gòu)(2)，所述噴淋機(jī)構(gòu)(2)設(shè)置于所述反應(yīng)箱(1)上，其抽取所述第二反應(yīng)室(12)內(nèi)的液體輸入到位于所述第一反應(yīng)室(11)的頂部的噴淋管(21)內(nèi)噴出形成簾幕；以及

壓濾機(jī)構(gòu)(3)，所述壓濾機(jī)構(gòu)(3)設(shè)置于所述第一反應(yīng)室(11)處，其包括位于所述第一反應(yīng)室(11)底部的壓濾組件(31)及位于所述第一反應(yīng)室(11)側(cè)壁上的噴灑組件(32)，所述壓濾組件(31)壓濾出的濾液經(jīng)所述噴灑組件(32)噴回所述第一反應(yīng)室(11)內(nèi)；

所述供氣設(shè)備(Ⅱ)向所述噴淋管(21)輸入二氧化碳?xì)怏w；

所述混料設(shè)備(Ⅳ)與所述供氣設(shè)備(Ⅱ)連通，其混合碳酸鋰粉末與二氧化碳?xì)怏w后，并將混合物輸入到所述第一反應(yīng)室(11)的頂部；

所述苛化反應(yīng)設(shè)備(Ⅴ)與所述所述第一反應(yīng)室(11)連通，其接收所述第一反應(yīng)室(11)輸出的碳酸氫鋰溶液并進(jìn)行苛化反應(yīng)生成氫氧化鋰溶液；

所述結(jié)晶設(shè)備(Ⅵ)與所述苛化反應(yīng)設(shè)備(Ⅴ)連通，其接收所述苛化反應(yīng)設(shè)備(Ⅴ)輸出的氫氧化鋰溶液并加熱析出溶液內(nèi)的氫氧化鋰。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氫氧化鋰制備系統(tǒng)，其特征在于，所述噴淋機(jī)構(gòu)(2)包括：

回流管(22)，所述回流管(22)連通所述第二反應(yīng)室(12)的底部及所述噴淋管(21)，其與所述噴淋管(21)轉(zhuǎn)動密封連接；以及

回流泵(23)，所述回流泵(23)設(shè)置于所述第二反應(yīng)室(12)的底部，其設(shè)置于所述回流管(22)上。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氫氧化鋰制備系統(tǒng)，其特征在于，所述噴淋管(21)的一側(cè)設(shè)置有弧形擋板(211)，且該噴淋管(21)噴出的液體形成的簾幕迎向所述混料設(shè)備(Ⅳ)輸入到所述第一反應(yīng)室(11)內(nèi)的混合物料。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氫氧化鋰制備系統(tǒng)，其特征在于，所述噴淋管(21)內(nèi)同軸設(shè)置有噴氣管(212)，該噴氣管(212)與所述噴淋管(21)轉(zhuǎn)動密封連接，且該噴氣管(212)與所述供氣設(shè)備(Ⅱ)連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氫氧化鋰制備系統(tǒng)，其特征在于，所述壓濾組件(31)包括：

分隔板(311)，所述分隔板(311)水平固定設(shè)置于所述第一反應(yīng)室(11)內(nèi)，其將所述第一反應(yīng)室(11)分隔形成位于其上方的反應(yīng)區(qū)(111)及位于其下方的壓濾區(qū)(112)，且其上沿其軸線圓周陣列設(shè)置有若干的過料孔(3111)，該分隔板(311)的下端面上設(shè)置有排液孔(3112)，且該分隔板(311)內(nèi)設(shè)置有與噴灑組件(32)及排液孔(3112)相連通的流道(3113)；

轉(zhuǎn)盤(312)，所述轉(zhuǎn)盤(312)吊設(shè)于所述分隔板(311)的下方，其與所述分隔板(311)相互重疊且相對轉(zhuǎn)動設(shè)置，其上設(shè)置有與所述過料孔(3111)一一對應(yīng)的進(jìn)料孔(3121)；

濾網(wǎng)(313)，所述濾網(wǎng)(313)圍繞所述轉(zhuǎn)盤(312)設(shè)置于該轉(zhuǎn)盤(312)的周圍，其與所述壓濾區(qū)(112)的側(cè)壁固定連接；

推板(314)，所述推板(314)沿豎直方向推送設(shè)置于所述壓濾區(qū)(112)內(nèi)；以及

驅(qū)動單元(315)，所述驅(qū)動單元(315)設(shè)置于所述壓濾區(qū)(112)的下方，其穿透所述壓濾區(qū)(112)的底板推動所述推板(314)，且其同步帶動所述轉(zhuǎn)盤(312)旋轉(zhuǎn)。