[發(fā)明專利]監(jiān)測(cè)系統(tǒng)及監(jiān)測(cè)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910764672.2
• 申請(qǐng)日: 2019-08-19
• 公開（公告）號(hào): CN110838459B
• 公開（公告）日: 2022-12-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王國鴻
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67;H01L21/683
• 代理公司: 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 韓旭;黃艷

1.一種監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，包括：

一吸座；

多個(gè)溝槽導(dǎo)管，布置圍繞在該吸座上的一標(biāo)稱晶圓位置的一圓周；

一氣源，與所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管流體連通；

一流量監(jiān)測(cè)器，配置以判斷從該氣源至所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的一單獨(dú)一者的一氣體流量；以及

一處理器，操作地耦接至該流量監(jiān)測(cè)器，

其中每一溝槽導(dǎo)管包括一錐形部分，該錐形部分隨著遠(yuǎn)離該標(biāo)稱晶圓位置的一中心的距離而在面積上變化，

其中該處理器基于從該氣源至所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的該單獨(dú)一者的該氣體流量而判斷一晶圓偏移。

2.如權(quán)利要求1所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中該錐形部分沿遠(yuǎn)離該標(biāo)稱晶圓位置的該中心的一最大距離以一曲線布置。

3.如權(quán)利要求1所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管布置為兩個(gè)同心環(huán)，每一環(huán)包括至少兩個(gè)溝槽導(dǎo)管。

4.如權(quán)利要求3所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中該兩個(gè)同心環(huán)的一者包括比另一者更多的溝槽導(dǎo)管。

5.如權(quán)利要求1所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管布置為一外環(huán)及一內(nèi)環(huán)，其中該外環(huán)與該內(nèi)環(huán)同心，且該外環(huán)包括比該內(nèi)環(huán)更多的溝槽導(dǎo)管。

6.如權(quán)利要求1所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管包括一三角形形狀。

7.如權(quán)利要求1所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管包括為環(huán)形的至少四個(gè)溝槽導(dǎo)管。

8.一種監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，包括：

一吸座；

多個(gè)溝槽導(dǎo)管，布置圍繞在該吸座上的一標(biāo)稱晶圓位置的一圓周，其中每一溝槽導(dǎo)管包括一錐形部分，該錐形部分隨著遠(yuǎn)離該標(biāo)稱晶圓位置的一中心的距離而在面積上減小；

一氣源，與所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管流體連通；

一流量監(jiān)測(cè)器，配置以判斷從該氣源至所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的一單獨(dú)一者的一氣體流量；以及

一處理器，操作地耦接至該流量監(jiān)測(cè)器，

其中該處理器基于從該氣源至所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的該單獨(dú)一者的該氣體流量而判斷一晶圓偏移。

9.如權(quán)利要求8所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的邊緣對(duì)準(zhǔn)該標(biāo)稱晶圓位置。

10.如權(quán)利要求8所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中一單一氣源與所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的每一者流體連通。

11.如權(quán)利要求8所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中該吸座為一靜電吸座。

12.如權(quán)利要求8所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中該錐形部分終止于遠(yuǎn)離該標(biāo)稱晶圓位置的該中心的一最大距離處的一點(diǎn)。

13.如權(quán)利要求8所述的監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，其中該氣源包括一氦氣及一氬氣中的至少一者。

14.一種監(jiān)測(cè)方法，包括：

將一晶圓放置在一標(biāo)稱晶圓位置處的一吸座上，其中該吸座包括：

多個(gè)溝槽導(dǎo)管，布置圍繞在該吸座上的該標(biāo)稱晶圓位置的一圓周；以及

一氣源，與所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管流體連通；

基于從該氣源至所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的一單獨(dú)一者的一氣體流量而判斷一晶圓偏移；以及

基于該晶圓偏移而在該吸座上移動(dòng)該晶圓，

其中每一溝槽導(dǎo)管包括一錐形部分，該錐形部分隨著遠(yuǎn)離該標(biāo)稱晶圓位置的一中心的距離而在面積上變化。

15.如權(quán)利要求14所述的監(jiān)測(cè)方法，還包括：

基于從該氣源至所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的多個(gè)者的一聚合氣體流量而判斷該晶圓偏移。

16.如權(quán)利要求14所述的監(jiān)測(cè)方法，還包括：

基于從該氣源至所述多個(gè)溝槽導(dǎo)管的該單獨(dú)一者的一氣體流率而判斷該晶圓偏移。