[發明專利]用于對對象成像的系統和方法

有效

• 申請號: 201910764027.0
• 申請日: 2019-08-19
• 公開（公告）號: CN110870775B
• 公開（公告）日: 2023-10-03
• 發明（設計）人: 雷米·克勞斯;澤維爾·曼卡迪;雅恩·勒穆爾;范妮·帕圖洛斯
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 錢慰民;張鑫

1.一種用于成像的系統，包括：

x射線源，所述x射線源用于使x射線透射穿過對象，同時所述x射線源沿著由掃掠角限定的路徑連續地行進；

檢測器，所述檢測器用于在所述x射線穿過所述對象后接收所述x射線；和

控制器，所述控制器用于：

經由所述x射線源和所述檢測器獲取關于所述對象的初步數據；

從所述初步數據確定至少一個獲取參數；以及

至少部分地基于所述獲取參數而經由所述x射線源和所述x射線檢測器獲取所述對象的一個或多個投影。

2.根據權利要求1所述的系統，其中所述獲取參數為以下中的至少一者：投影的數量、所述x射線源的旋轉速度、所述x射線源的角度范圍以及所述一個或多個投影中的投影之間的角度步長。

3.根據權利要求1所述的系統，其中所述初步數據包括所述對象的衰減屬性。

4.根據權利要求3所述的系統，其中所述衰減屬性為最密集位置處的聚甲基丙烯酸甲酯等效厚度。

5.根據權利要求1所述的系統，其中所述控制器至少部分地基于以下中的一者來確定所述至少一個獲取參數：所述x射線源的陽極材料、所述x射線源的濾波器選擇、所述x射線源的峰值千伏電壓、所述x射線源的每脈沖毫安數、所述x射線源的旋轉速度、以及投影的數量。

6.根據權利要求1所述的系統，其中所述控制器進一步用于：

從所述一個或多個投影生成三維圖像。

7.根據權利要求1所述的系統，其中所述路徑被配置用于斷層合成。

8.根據權利要求1所述的系統，其中所述控制器進一步用于：

當由所述x射線源和所述檢測器獲取的所述一個或多個投影的數量等于投影的期望數量時，或者當所述x射線源的旋轉角度達到期望的旋轉角度時，停止獲取所述一個或多個投影。

9.一種用于成像的方法，包括：

經由控制器、x射線源和x射線檢測器獲取對象的初步數據，所述x射線源用于使x射線透射穿過所述對象，同時所述x射線源沿著由掃掠角限定的路徑連續地行進，所述檢測器用于在所述x射線穿過所述對象之后接收所述x射線；

經由所述控制器從所述初步數據確定至少一個獲取參數；以及

至少部分地基于所述獲取參數而經由所述控制器、所述x射線源和所述檢測器獲取所述對象的一個或多個投影。

10.根據權利要求9所述的方法，其中經由所述控制器從所述初步數據確定至少一個獲取參數至少部分地基于以下中的一者：所述x射線源的陽極材料、所述x射線源的濾波器選擇、所述x射線源的峰值千伏電壓、所述x射線源的每脈沖毫安數、所述x射線源的旋轉速度、以及投影的數量。