[發(fā)明專利]一種用于氮化鋁基片拋光的拋光液的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910764025.1 | 申請日: | 2019-08-19 |
| 公開(公告)號: | CN110437744A | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊大勝;施純錫 | 申請(專利權(quán))人: | 福建華清電子材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C09G1/02 | 分類號: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 泉州市誠得知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35209 | 代理人: | 賴開慧 |
| 地址: | 362200 福*** | 國省代碼: | 福建;35 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 拋光 拋光液 制備 氮化鋁基片 羥丙基甲基纖維素 有機(jī)硅烷偶聯(lián)劑 二氧化硅膠體 二氧化鈰磨料 制備技術(shù)領(lǐng)域 表面活性劑 氮化鋁晶片 氧化劑 工件表面 晶片表面 拋光材料 超精密 分散劑 后表面 緩蝕劑 絡(luò)合劑 無損傷 消泡劑 有機(jī)胺 催化劑 劃痕 去除 申請 | ||
1.一種用于氮化鋁基片拋光的拋光液,其特征在于:所述拋光液包括如下組分:二氧化硅膠體、二氧化鈰磨料、有機(jī)胺、氧化劑、分散劑、羥丙基甲基纖維素、有機(jī)硅烷偶聯(lián)劑、表面活性劑、緩蝕劑、絡(luò)合劑、消泡劑、催化劑;
所述有機(jī)胺為乙二胺、三乙胺、乙醇胺、二甲胺、丙胺、異丙胺、環(huán)己胺中的任意一種,所述氧化劑為過氧化氫、次氯酸鈉、高錳酸鉀中的任意一種;
所述分散劑為纖維素衍生物、聚丙烯酰胺、十二烷基二甲基芐基溴化銨、脂肪酸聚乙二醇酯中的任意一種;
所述表面活性劑為壬基酚聚氧乙烯醚、失水山梨醇單水桂酸脂、椰油酸二乙醇酰胺中的任意一種;
所述緩蝕劑為喹啉類緩蝕劑、咪唑類緩蝕劑、吡啶類緩蝕劑中的任意一種;
所述絡(luò)合劑為馬來酸丙烯酸共聚物、二乙烯三胺五甲叉膦酸中的任意一種;
所述消泡劑為聚氧丙烯氧化乙烯甘油醚或有機(jī)硅消泡劑中的任意一種;
所述催化劑為負(fù)載型催化劑,包括五氧化二釩-白土催化劑、二氧化鈦-氧化鋁中的任意一種。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于氮化鋁基片拋光的拋光液,其特征在于:所述拋光液包括以下質(zhì)量分?jǐn)?shù)的組分:二氧化硅膠體25%~35%、二氧化鈰8%~12%、有機(jī)胺10%~15%、氧化劑5%~8%、分散劑0.8%~1.2%、羥丙基甲基纖維素1%~3%、有機(jī)硅烷偶聯(lián)劑0.5%~0.9%、表面活性劑0.7%~1.3%、緩蝕劑0.5%~1.0%、絡(luò)合劑0.4%~0.8%、消泡劑0.3%~0.5%、催化劑0.9%~1.8%,余量為水。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于氮化鋁基片拋光的拋光液,其特征在于:所述拋光液的pH值為9~12。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于氮化鋁基片拋光的拋光液,其特征在于:所述二氧化鈰的粒徑為100~300nm,二氧化硅膠體中二氧化硅磨料的粒徑為50~100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一權(quán)利要求所述的一種用于氮化鋁基片拋光的拋光液的制備方法,其特征在于:按質(zhì)量分?jǐn)?shù)稱取氧化劑、分散劑、羥丙基甲基纖維素、有機(jī)硅烷偶聯(lián)劑、表面活性劑、緩蝕劑、絡(luò)合劑、消泡劑、催化劑于水中,攪拌20~30min,然后加入二氧化硅膠體和二氧化鈰,繼續(xù)攪拌30~40min,最后再加入有機(jī)胺調(diào)節(jié)pH值。
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