[發明專利]測量裝置和光刻機

有效

• 申請號: 201910759825.4
• 申請日: 2019-08-16
• 公開（公告）號: CN112394620B
• 公開（公告）日: 2022-04-01
• 發明（設計）人: 趙欽浩
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備（集團）股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G01M11/02
• 代理公司: 上海思捷知識產權代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本發明提供一種測量裝置和光刻機，所述測量裝置用于檢測測量光的偏振相差，所述測量裝置包括測量主體、波片、偏振片、旋轉臺和圖像采集分析單元，所述旋轉臺、所述偏振片和所述圖像采集分析單元設置在所述測量主體上，所述旋轉臺用于驅動所述波片旋轉，所述測量光經所述波片、所述偏振片后進入所述圖像采集分析單元，所述圖像采集分析單元用于采集、分析所述測量光并獲得偏振相差，所述測量裝置還包括冷卻組件，所述冷卻組件用于吸收所述圖像采集分析單元和/或所述旋轉臺的熱量。本發明中的測量裝置和光刻機可改善測量裝置和光刻機的穩定性。

技術領域

本發明涉及光刻技術領域，特別涉及一種測量裝置和光刻機。

背景技術

對于浸沒式投影光刻機而言，投影物鏡偏振相差的測量結果容易影響光刻機的分辨率。目前，光刻機多采用測量裝置測量投影物鏡偏振相差。然而，現有的測量裝置多存在穩定性低的問題，投影物鏡偏振相差的測量結果穩定性低，光刻機的分辨率易受投影物鏡偏振相差的測量結果的影響而波動，導致光刻機的穩定性低。

因此，急需對現有的測量裝置進行改進，以提高測量裝置的穩定性，從而改善光刻機的穩定性。

發明內容

本發明的目的在于提供一種測量裝置和光刻機，以解決現有的測量裝置和光刻機穩定性低的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供一種測量裝置，用于檢測測量光的偏振相差，包括測量主體、波片、偏振片、旋轉臺和圖像采集分析單元，所述旋轉臺、所述偏振片和所述圖像采集分析單元設置在所述測量主體上，所述旋轉臺用于驅動所述波片旋轉，所述測量光經所述波片、所述偏振片后進入所述圖像采集分析單元，所述圖像采集分析單元用于采集、分析所述測量光并獲得偏振相差，所述測量裝置還包括冷卻組件，所述冷卻組件用于吸收所述圖像采集分析單元和/或所述旋轉臺的熱量。

可選的，所述冷卻組件具有一冷卻流道、流道入口和流道出口，所述冷卻流道的一端與所述流道入口連通，另一端與流道出口連通，冷卻介質可從所述流道入口流入所述冷卻流道并從所述流道出口流出所述冷卻流道。

可選的，所述冷卻組件包括第一冷卻件、至少兩個第二冷卻件和第三冷卻件，所述第一冷卻件固定設置在所述測量主體上，所述旋轉臺設置在所述第一冷卻件上，所述波片設置在所述旋轉臺上，所述第二冷卻件固定設置在所述第一冷卻件上，所述偏振片固定設置在所述第二冷卻件上，所述第三冷卻件固定設置在所述第二冷卻件上，所述圖像采集分析單元固定設置在所述第三冷卻件上。

可選的，所述冷卻流道設置在所述第一冷卻件中，所述流道入口和所述流道出口設置在所述第一冷卻件上。

可選的，所述第一冷卻件包括第一冷卻板和第二冷卻板，所述第一冷卻板固定設置在所述測量主體上，所述第二冷卻板固定設置在所述第一冷卻板上，所述第二冷卻件固定設置在所述第二冷卻板上，所述旋轉臺固定設置在所述第二冷卻板上，所述冷卻流道、流道入口和流道出口設置在所述第一冷卻板和所述第二冷卻板之間。

可選的，所述冷卻流道設置在所述第三冷卻件中，所述流道入口和所述流道出口設置在所述第三冷卻件上。

可選的，所述冷卻流道設置在所述第一冷卻件、所述第二冷卻件和所述第三冷卻件中，所述流道入口和所述流道出口設置在所述第一冷卻件和/或所述第三冷卻件上。