[發(fā)明專利]光學(xué)特性可調(diào)的微納結(jié)構(gòu)及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910758432.1 | 申請日: | 2019-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN110451452A | 公開(公告)日: | 2019-11-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 唐先龍;王天堃;劉翡瓊 | 申請(專利權(quán))人: | 西安柯萊特信息科技有限公司 |
| 主分類號: | B81B3/00 | 分類號: | B81B3/00;G02B26/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 710000陜西省西安市高新區(qū)高*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 微納結(jié)構(gòu) 空腔 光學(xué)特性 液態(tài)金屬 耦合 膨脹材料 襯底 形狀和位置 光學(xué)器件 可調(diào)的 填充 膨脹 | ||
1.一種光學(xué)特性可調(diào)的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,所述微納結(jié)構(gòu)包括:襯底、膨脹材料、液態(tài)金屬和兩個微納單元;
所述襯底的一個面上挖設(shè)有空腔,所述空腔內(nèi)分別填充有膨脹材料和液態(tài)金屬,兩個所述微納單元分別設(shè)置在所述襯底挖設(shè)空腔面的兩側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,所述襯底材料為二氧化硅。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,所述液態(tài)金屬為貴金屬。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,兩個所述微納單元的結(jié)構(gòu)為棒狀結(jié)構(gòu)或者“U”形結(jié)構(gòu)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,兩個所述微納單元材料為貴金屬。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,所述膨脹材料為熱膨脹材料或者磁膨脹材料。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,所述空腔內(nèi)壁上涂覆有低阻力涂層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的微納結(jié)構(gòu),其特征在于,所述低阻力涂層為低阻力固膠。
9.一種光學(xué)特性可調(diào)的微納系統(tǒng),其特征在于,所述微納系統(tǒng)包括:調(diào)節(jié)器和至少一個權(quán)利要求1-8任意一項所述的微納結(jié)構(gòu),所述調(diào)節(jié)器用于控制所述微納結(jié)構(gòu)中膨脹材料的膨脹程度。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的微納系統(tǒng),其特征在于,所述調(diào)節(jié)器包括熱調(diào)節(jié)器或者磁場強度調(diào)節(jié)器。
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