[發(fā)明專利]一種二氯頻哪酮生產(chǎn)尾氣回收二氯頻哪酮裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910751510.5 | 申請日: | 2019-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN110433610A | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葛八權(quán) | 申請(專利權(quán))人: | 南通鴻富達(dá)利化工有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/14 | 分類號: | B01D53/14;C07C45/78;C07C49/16 |
| 代理公司: | 北京一格知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11316 | 代理人: | 滑春生 |
| 地址: | 226400 江蘇省南*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 頻哪酮 鹽酸 生產(chǎn)尾氣回收 分布模塊 酸性溶液 分離管 回流管 排氣管 緩沖 液化 噴灑 進(jìn)氣口 氯化氫氣體 副排氣管 流量控制 氣體通過 塔體結(jié)構(gòu) 主排氣管 主吸收層 不互溶 反應(yīng)釜 氯化氫 噴水管 水洗塔 下滲 溶解 | ||
本發(fā)明涉及一種二氯頻哪酮生產(chǎn)尾氣回收二氯頻哪酮裝置,其特征在于:包括反應(yīng)釜、排氣管、水洗塔和回流管;所述排氣管包括主排氣管和副排氣管;本發(fā)明中塔體結(jié)構(gòu)進(jìn)氣口設(shè)置有噴水管先進(jìn)行降溫之后再通過緩沖分布模塊將噴灑的水進(jìn)行收集下滲均勻分布增加與氣體的接觸同時(shí)預(yù)降溫使得氣體中的二氯頻哪酮液化,此外,溶解部分氯化氫氣體形成酸性溶液,降溫的氣體通過緩沖分布模塊進(jìn)入到主吸收層內(nèi),大量噴灑的水與氣體中的氯化氫形成酸性溶液,剩余的部分二氯頻哪酮也被大量液化進(jìn)入到分離管上的回流管內(nèi),由于二氯頻哪酮與鹽酸不互溶且二氯頻哪酮位于鹽酸的上方,通過分離管的流量控制實(shí)現(xiàn)鹽酸與二氯頻哪酮的分離。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及二氯頻哪酮生產(chǎn)尾氣回收領(lǐng)域,尤其涉及一種二氯頻哪酮生產(chǎn)尾氣回收二氯頻哪酮裝置。
背景技術(shù)
二氯頻哪酮的生產(chǎn)中,將經(jīng)精餾后的頻哪酮經(jīng)計(jì)量后投入到氯化反應(yīng)釜中,氯氣加熱器升溫至75℃,氯氣經(jīng)緩沖罐通入到氯化反應(yīng)釜中,在此溫度下保溫反應(yīng)70h(緩沖罐壓力不得超過0.1MPA);同時(shí),開啟生產(chǎn)尾氣吸收裝置,伴生的氯化氫經(jīng)水吸收成鹽酸;伴生的氯化氫在離開反應(yīng)釜的時(shí)候會(huì)帶走部分氣態(tài)的二氯頻哪酮,這部分產(chǎn)物浪費(fèi)十分嚴(yán)重,因此需要在產(chǎn)生的尾氣中進(jìn)行二氯頻哪酮得提取。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種二氯頻哪酮生產(chǎn)尾氣回收二氯頻哪酮裝置,能夠解決一般的頻哪酮在生產(chǎn)二氯頻哪酮中采用過量的氯氣進(jìn)行反應(yīng)中過量的氯氣會(huì)帶走部分反應(yīng)產(chǎn)生的二氯頻哪酮問題。
為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明的技術(shù)方案為:一種二氯頻哪酮生產(chǎn)尾氣回收二氯頻哪酮裝置,其創(chuàng)新點(diǎn)在于:包括反應(yīng)釜、排氣管、水洗塔和回流管;所述排氣管包括主排氣管和副排氣管;
所述主排氣管呈L型結(jié)構(gòu),所述主排氣管的一端連接在反應(yīng)釜的頂端,所述主排氣管的另一端通過一管道連接在水洗塔的頂端,所述水洗塔沿著豎直方向設(shè)置;所述水洗塔的底端與回流管的一端相連,所述回流管的另一端連接在反應(yīng)釜上,所述副排氣管的一端連接水洗塔上與水洗塔導(dǎo)通實(shí)現(xiàn)排氣;
所述水洗塔包括塔體結(jié)構(gòu)、石墨內(nèi)襯、預(yù)降溫層、緩沖分布模塊和主吸收層;所述降溫層、緩沖分布模塊和主吸收層自上而下設(shè)置在塔體結(jié)構(gòu)內(nèi);所述塔體結(jié)構(gòu)上的頂端設(shè)置有進(jìn)氣口,塔體結(jié)構(gòu)的側(cè)邊設(shè)置有出氣口;所述石墨內(nèi)襯緊貼在塔體結(jié)構(gòu)的內(nèi)壁上;
所述預(yù)降溫層包括一對水平設(shè)置在塔體結(jié)構(gòu)內(nèi)的噴水管,且水平設(shè)置的噴水管上設(shè)置有若干霧化噴頭;所述緩沖分布模塊設(shè)置在降溫層的下方;所述主吸收層包括若干水平設(shè)置的噴淋管,所述噴淋管上設(shè)置有霧化噴頭,所述噴淋管的一端通過管道連接在設(shè)置在塔體外側(cè)的供水源上;
所述回流管上設(shè)置有一分離管;所述回流管上設(shè)置有一S型的液封彎道形成回流緩沖段;所述分離管包括分層段和控流段;所述分層段連接在控流段的底端;所述分層段與控流段均為同一直管結(jié)構(gòu),所述分層段連接在S型液封彎道的底端出口,控流段下端部分設(shè)置有流量控制閥;所述分層段的側(cè)面延伸設(shè)置有一分離管道,所述分離管道的輸出端連接在一收集罐上。
進(jìn)一步的,所述緩沖分布模塊包括筒體、石墨管和石墨板層;所述筒體為頂端開口底端封閉的器皿狀結(jié)構(gòu),筒體的內(nèi)側(cè)壁上設(shè)置有定位卡槽;所述筒體的底面上均勻分布有若干個(gè)石墨管安裝孔。
進(jìn)一步的,所述石墨板層呈圓柱狀且嵌入在筒體的內(nèi)側(cè)壁的定位卡槽內(nèi),石墨板層垂直于筒體的內(nèi)側(cè)壁;所述石墨板層上端面的中心位置設(shè)置有一個(gè)儲(chǔ)液槽,在儲(chǔ)液槽的四周開設(shè)有若干個(gè)溢流孔,溢流孔上設(shè)置有溢流擋板,溢流擋板的底端與溢流孔相連,石墨板層上均勻設(shè)置有若干個(gè)石墨管安裝孔;所述石墨管嵌入安裝在筒體底面的石墨管安裝孔內(nèi),位于石墨板層上的石墨管安裝孔其兩端均安裝有石墨管。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南通鴻富達(dá)利化工有限公司,未經(jīng)南通鴻富達(dá)利化工有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910751510.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





