[發明專利]一種直寫光刻機的曝光系統

在審

• 申請號: 201910743951.0
• 申請日: 2019-08-13
• 公開（公告）號: CN112394619A
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 張柯;李偉成;張雷
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明提供了一種直寫光刻機的曝光系統，其包括光源、勻光裝置、中繼透鏡組、數字微反射鏡陣列和曝光鏡頭，所述光源的光線依次通過所述勻光裝置、所述中繼透鏡組、所述數字為反射陣列和所述曝光鏡頭，所述光源至少包括第一光源和第二光源，所述第一光源和所述第二光源的波長不同，所述勻光裝置采用整合勻光裝置，對所述第一光源和所述第二光源發出的光線進行整合勻光。

技術領域

本發明涉及一種直寫光刻機的曝光系統，特別是一種應用于至少兩光源的直寫式光刻機的曝光系統。

背景技術

光刻技術廣泛應用于半導體和PCB生產領域，是制作半導體器件、芯片和PCB板等產品的工藝步驟之一，其用于在基底表面上印刷特征圖形，最終獲得依據電路設計所需的圖形結構。傳統的光刻技術需要制作掩膜的母版或者菲林底片進行曝光操作，制作周期長，且每一版對應單一圖形，不能廣泛應用。為解決傳統光刻技術的問題，直寫光刻機構應運而生，其利用數字光處理技術，通過可編程的數字反射鏡裝置實現編輯不同的所需的圖形結構，能夠快速切換圖形，其不僅可以降低成本，還可以減少制程的時間，正廣泛應用于光刻技術領域。

光刻的原理是通過曝光的方法將掩膜圖像轉移到涂覆于基底表面的光刻膠上，然后通過顯影、刻蝕等工藝，最終獲得所需的圖形結構。光刻膠是光刻工藝中的關鍵材料之一，常用的光刻膠包括油墨、防焊油墨等，也可分為干膜、濕膜等多種材料，其通過光照后形成相對于某些溶劑的可溶物或者不可溶物，通過刻蝕去除或者保留所述光刻膠，形成所需的圖形結構。由于光刻膠材料的不同，其較佳的感光的波長也會發生變化，而目前應用于直寫光刻機的激光光源的波長多為405nm，其對于防焊油墨等特定的光刻膠，由于曝光能量不足，光感應度低等問題，曝光效果不佳。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種能夠增強曝光效果的曝光系統。

為了解決上述問題，本發明提供了一種一種直寫光刻機的曝光系統，其包括光源、勻光裝置、中繼透鏡組、數字微反射鏡陣列和曝光鏡頭，所述光源的光線依次通過所述勻光裝置、所述中繼透鏡組、所述數字為反射陣列和所述曝光鏡頭，其特征在于，所述光源至少包括第一光源和第二光源，所述第一光源和所述第二光源的波長不同，所述勻光裝置采用整合勻光裝置，對所述第一光源和所述第二光源發出的光線進行整合勻光。

進一步的，所述光源為波長范圍在360nm-410nm的至少兩個波長的光源的任意組合。

進一步的，所述光源的波長為365nm、375nm、385nm、395nm或者405nm中至少兩個波長的光源的任意組合。

進一步的，所述第一光源和所述第二光源的波長為375nm、405nm。

進一步的，所述勻光裝置包括第一橫向勻光棒、第二橫向勻光棒和縱向勻光棒，所述第一橫向勻光棒和所述第二橫向勻光棒相對設置，所述縱向勻光棒垂直于所述第一橫向勻光棒和所述第二橫向勻光棒，所述第一光源和所述第二光源的光線在所述縱向勻光棒中整合。

進一步的，所述第一橫向勻光棒和所述第二橫向勻光棒均具有入射面、反射面和出射面，所述第一橫向光源和所述第二橫向光源的反射面彼此相接，所述第一光源的光線經所述第一橫向勻光棒的反射面反射至所述縱向勻光棒，所述第二光源的光線通過所述第二橫向勻光棒的反射面反射至所述縱向勻光棒。

進一步的，所述反射面與所述入射面的角度為45°。

進一步的，所述第一橫向勻光棒、所述第二橫向勻光棒和所述縱向勻光棒一體成型；或者所述第一橫向勻光棒和所述第二橫向勻光棒均具有一柱狀勻光棒和直角棱鏡，所述柱狀勻光棒和直角棱鏡之間具有空氣間隙或膠粘組合。

進一步的，所述光源的數量大于2個，所述勻光裝置中的橫向勻光棒錯位設置，或者所述勻光裝置并排排列。

進一步的，所述曝光鏡頭為雙遠心曝光鏡頭。