[發(fā)明專利]一種具有超結的逆導型IGBT在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910738148.8 | 申請日: | 2019-08-12 |
| 公開(公告)號: | CN110444584A | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發(fā)明(設計)人: | 鄭崇芝;夏云;譙彬;李青嶺;孫瑞澤;劉超;施宜軍;信亞杰;王方洲;陳萬軍 | 申請(專利權)人: | 電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06;H01L29/739 |
| 代理公司: | 成都點睛專利代理事務所(普通合伙) 51232 | 代理人: | 孫一峰 |
| 地址: | 611731 四川省*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導通狀態(tài) 集電極區(qū) 集電區(qū) 逆導型 超結 導通 功率半導體技術 漂移 介質隔離層 電流分布 正向導通 傳統(tǒng)的 單極 雙極 疊加 近似 替換 隔離 優(yōu)化 | ||
本發(fā)明涉及功率半導體技術,特別涉及一種具有超結的逆導型IGBT。相對于傳統(tǒng)的超結逆導型IGBT,本發(fā)明將集電極區(qū)中的一部分的P+集電極區(qū)用N+集電區(qū)替換,并且用P型條以及介質隔離層將N型漂移區(qū)分為兩個不相連的N型漂移區(qū)區(qū)域,P+集電極區(qū)與N+集電區(qū)各位于其中一個N型漂移區(qū),器件正向導通時,由于左右兩個N型漂移區(qū)相對隔離,因此導通狀態(tài)近似于左側IGBT雙極導通狀態(tài)與右側MOS單極導通狀態(tài)的疊加,不存在snapback現(xiàn)象。由于N+集電區(qū)的存在,器件能實現(xiàn)逆向導通。本發(fā)明的有益成果:實現(xiàn)逆向導通能力,無snapback現(xiàn)象,同時優(yōu)化了逆向導通時電流分布。
技術領域
本發(fā)明屬于功率半導體技術領域,特別涉及一種具有超結的逆導型IGBT(Insulated gate bipolar transistor,絕緣柵雙極型晶體管)。
背景技術
逆導型IGBT是一種具有反向導通能力的IGBT。普通的IGBT不具備逆向導通能力,因此在應用時常會反向并聯(lián)一個二極管進行續(xù)流保護。但是這樣會導致系統(tǒng)體積增大,并且會引入寄生效應影響系統(tǒng)的可靠性。
傳統(tǒng)的逆導型IGBT通過將一部分集電極區(qū)的P+區(qū)域替換成N+區(qū)來實現(xiàn)逆導功能。這對N+與P+區(qū)域的比例有一定的要求,N+區(qū)域過大,可能導致器件出現(xiàn)電壓折回(snapback)效應,而N+區(qū)域越小,反向的電流分布會越不均勻。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的,就是針對上述問題,提出一種具有超結的逆導型IGBT。
本發(fā)明的技術方案:一種具有超結的逆導型IGBT,其元胞包括集電極結構、耐壓層結構、發(fā)射極結構和柵極結構,耐壓層結構位于集電極結構之上,發(fā)射極結構和柵極結構位于耐壓層結構之上;
所述發(fā)射極結構包括位于耐壓層結構上表面的P型阱區(qū)8,位于P型阱區(qū)8上表面的N+發(fā)射極區(qū)10和P+體接觸區(qū)9,N+發(fā)射極區(qū)10位于P+體接觸區(qū)9兩側,P+體接觸區(qū)9上表面具有絕緣層11,絕緣層11向兩側延伸與N+發(fā)射極區(qū)10上表面接觸,N+發(fā)射極區(qū)10和P+體接觸區(qū)9的共同引出端為發(fā)射極E;
所述柵極結構為溝槽柵,溝槽柵由第一絕緣介質11和位于第一絕緣介質11之中的第一導電材料12構成;所述第一導電材料12的引出端為器件的柵極G;所述溝槽柵位于器件兩端并從器件表面垂直貫穿P型阱區(qū)8,溝槽柵的側面與P型阱區(qū)8和N+型發(fā)射極區(qū)10的側面接觸;
所述耐壓層結構包括N型漂移區(qū)5以及P型條6,所述P型條6在N型漂移區(qū)5中間隔分布,所述P型條6的上表面與P型阱區(qū)8的下表面相連接,所述P型條6與N型漂移區(qū)5組成超結結構,所述溝槽柵延伸入N型漂移區(qū)5中,N型漂移區(qū)5的上表面還與P型阱區(qū)8下表面接觸;
所述集電極結構包括P+集電極區(qū)2、N+集電極區(qū)1和N型緩沖層3,所述N型緩沖層3的上表面與耐壓層相連接,所述P+集電極區(qū)2以及N+集電極區(qū)1的上表面與N型緩沖層3相連接,所述P+集電極區(qū)2以及N+集電極區(qū)1的共同引出端為集電極C;
其特征在于,所述集電極結構還包括絕緣介質隔離層4,絕緣介質隔離層4將P+集電極區(qū)2以及N+集電極區(qū)1分隔開,并且貫穿N型緩沖層3后延伸入P型條6中,位于P型條6中的絕緣介質隔離層4的側面與上表面與N型漂移區(qū)5接觸。
本發(fā)明的有益效果為,本發(fā)明的逆導型IGBT實現(xiàn)了逆向導通的能力,相對于傳統(tǒng)的逆導型IGBT而言,本發(fā)明消除了snapback現(xiàn)象,可以在更小的元胞寬度下實現(xiàn)逆導功能,并且反向導通電流更加均勻。
附圖說明
圖1是本發(fā)明的具有超結的逆導型IGBT示意圖;
圖2是常規(guī)超結IGBT示意圖;
具體實施方式
下面結合附圖對本發(fā)明進行詳細的描述
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