[發明專利]沉淀裝置、絮凝沉淀預處理設備及其安裝方法在審
| 申請號: | 201910737535.X | 申請日: | 2019-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN110523112A | 公開(公告)日: | 2019-12-03 |
| 發明(設計)人: | 顏飛;孫勇;陸祖安;李浩 | 申請(專利權)人: | 中國電建集團核電工程有限公司 |
| 主分類號: | B01D21/02 | 分類號: | B01D21/02;B01D21/08;C02F1/52 |
| 代理公司: | 11646 北京超成律師事務所 | 代理人: | 陳治位<國際申請>=<國際公布>=<進入 |
| 地址: | 250000 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 集水槽 沉淀 通孔 水面 漂浮 沉淀裝置 預處理設備 原水預處理 安裝效率 側壁連接 長期穩定 浮力影響 角度布置 絮凝沉淀 沉淀池 緊固件 緊固力 浮力 減小 保證 緩解 延伸 流動 | ||
1.一種沉淀裝置,其特征在于,包括:沉淀主體、沉淀池和集水槽;
所述沉淀池位于所述沉淀主體的底部,所述集水槽位于所述沉淀主體遠離所述沉淀池的一側,且沿著所述集水槽延伸的端部通過緊固件與所述沉淀主體的側壁連接;所述集水槽的底部開設有通孔。
2.根據權利要求1所述的沉淀裝置,其特征在于,還包括沉淀板和第一排泥裝置;
所述沉淀板位于所述集水槽和所述沉淀池之間,且所述沉淀板與所述沉淀主體連接,所述集水槽的通孔位于所述集水槽靠近所述沉淀板的一側;
所述沉淀池呈錐形,所述第一排泥裝置的一端與所述沉淀池的內部底端連通。
3.根據權利要求2所述的沉淀裝置,其特征在于,所述集水槽內的通孔沿著所述集水槽的長度方向設置有多個,任意兩個所述通孔的間距范圍為1.5m-2m。
4.根據權利要求3所述的沉淀裝置,其特征在于,所述集水槽呈U型結構,U型的所述集水槽的兩側邊對稱設置有進水孔。
5.根據權利要求3所述的沉淀裝置,其特征在于,所述沉淀板包括斜板、連接管、托管和固定部;
所述斜板設置有多個,多個所述斜板呈平行設置,且任意一個所述斜板相對于地面呈傾斜設置;
所述托管與所述沉淀主體連接,多個所述斜板用于放置于所述托管上,且所述固定部用于將所述斜板、所述連接管和所述托管三者連接。
6.根據權利要求5所述的沉淀裝置,其特征在于,還包括架板;
所述架板放置于所述托管上,且所述斜板能夠與所述架板抵接,以使所述斜板相對于地面呈傾斜設置,所述斜板相對于地面的傾斜角度范圍是55°-65°。
7.根據權利要求5所述的沉淀裝置,其特征在于,所述固定部包括固定繩;
所述固定繩通過雙環結捆綁的方式將所述斜板、所述連接管和所述托管三者連接。
8.一種絮凝沉淀預處理設備,其特征在于,包括:星形絮凝裝置、集水渠和如權利要求1-7任一項所述的沉淀裝置;
所述星形絮凝裝置的一端與原水接管連通,所述星形絮凝裝置的另一端與所述沉淀裝置連通,所述星形絮凝裝置用于將原水處理后傳遞至所述沉淀裝置內;
所述集水渠位于所述沉淀裝置的一側,且所述集水槽與所述集水渠連通,用于將所述沉淀裝置處理后的水輸送至所述集水渠內。
9.根據權利要求8所述的絮凝沉淀預處理設備,其特征在于,所述星形絮凝裝置包括絮凝單元格、絮凝池和第二排泥裝置;
所述絮凝單元格位于所述絮凝池的頂部,所述絮凝單元格內包括有多個翼片,所述翼片用于對進入至所述絮凝池內的原水進行斷面切削,以使原水內的沉淀物落入之所述絮凝池內;
所述絮凝池呈錐形,所述第二排泥裝置的一端與所述絮凝池的內部底端連通。
10.根據權利要求9所述的絮凝沉淀預處理設備,其特征在于,還包括排泥渠;
所述排泥渠位于所述星形絮凝裝置和所述沉淀裝置的同一側,且所述排泥渠分別與所述沉淀主體和所述絮凝池的外側壁連接,所述沉淀裝置的第一排泥裝置和所述星形絮凝裝置的第二排泥裝置的出口端均位于所述排泥渠的頂部。
11.一種如權利要求8-10任一項所述絮凝沉淀預處理設備的安裝方法,其特征在于,包括以下步驟:
施工絮凝池和沉淀主體,并在沉淀主體內施工沉淀池;
在沉淀池的底部安裝第一排泥裝置,在絮凝池的底部安裝第二排泥裝置;
將單個絮凝單元格進行模塊化組裝連接;
將組裝好的絮凝單元格放置于絮凝池的頂部;
在集水槽的底部開設通孔,將集水槽安裝于沉淀主體的頂部,其中,集水槽的安裝固定點為沉淀主體的側壁;
在沉淀池和集水槽之間安裝斜板;
完成絮凝沉淀預處理設備的安裝。
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