[發(fā)明專利]一種掩膜版和像素結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910734140.4 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-09 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110578112B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉志喬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H01L51/56 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掩膜版 像素 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種掩膜版,其特征在于,包括用于在顯示面板的像素開口中制作子像素的掩膜開口;所述掩膜開口的面積大于對(duì)應(yīng)的像素開口的面積;所述像素開口包括至少一條內(nèi)凹的曲線邊;所述掩膜開口包括至少一條掩膜邊,且所述至少一條掩膜邊與至少一條曲線邊一一對(duì)應(yīng),每一條掩膜邊的曲率小于其對(duì)應(yīng)的曲線邊的曲率。
2.如權(quán)利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜邊呈直線形。
3.如權(quán)利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜邊呈曲線形。
4.如權(quán)利要求3所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜邊呈圓弧形,所述圓弧的圓心角大于0°,且小于或等于30°。
5.如權(quán)利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜開口的形狀為軸對(duì)稱圖形。
6.如權(quán)利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述掩膜開口的形狀包括正多邊形或具有倒角的正多邊形。
7.如權(quán)利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述像素開口的形狀為軸對(duì)稱的八邊形,所述像素開口包括四條所述曲線邊,任意相鄰的兩條曲線邊通過第一直線邊連接,且所述任意相鄰的兩條曲線邊與另外相鄰的兩條曲線邊相對(duì)設(shè)置;
所述掩膜開口的形狀為軸對(duì)稱的八邊形,所述掩膜開口包括四條所述掩膜邊,四條所述掩膜邊與四條所述曲線邊一一對(duì)應(yīng),任意相鄰的兩條掩膜邊通過第二直線邊連接。
8.如權(quán)利要求7所述的掩膜版,其特征在于,四條所述曲線邊的長(zhǎng)度和曲率相同;四條所述掩膜邊的長(zhǎng)度和曲率相同。
9.如權(quán)利要求7所述的掩膜版,其特征在于,所述第一直線邊與所述第二直線邊平行,且所述第一直線邊的長(zhǎng)度小于所述第二直線邊的長(zhǎng)度。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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