[發明專利]一種含N-P=O(S)共振結構的光電材料、制備方法及應用有效
| 申請號： | 201910732920.5 | 申請日： | 2019-08-09 |
| 公開（公告）號： | CN110407875B | 公開（公告）日： | 2022-04-26 |
| 發明（設計）人： | 陶冶;項淵;陳潤鋒;李歡歡 | 申請（專利權）人： | 南京郵電大學 |
| 主分類號： | C07F9/572 | 分類號： | C07F9/572;C09K11/06;H01L51/50;H01L51/54 |
| 代理公司： | 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102 | 代理人： | 姚姣陽 |
| 地址： | 210012 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 共振 結構 光電 材料 制備 方法 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種含N-P=O共振結構的光電材料，其特征在于，結構式為。
2.根據權利要求1所述的一種含N-P=O共振結構的光電材料的制備方法，其特征在于，該方法包括如下步驟：
S1：在氬氣保護下將咔唑溶解在無水四氫呋喃中，在低溫條件下加入正丁基鋰試劑，二者充分反應后得到反應體系A；
所述咔唑與正丁鋰試劑的摩爾比為1:1～2；底物的摩爾量與四氫呋喃的體積比例為1mmol:5～7.5 mL；反應溫度為-78℃，反應時間為0.5～1.5小時；
S2：在低溫條件下向S1步驟中得到的反應體系A中滴加N,N-二乙基氨基二氯磷試劑，升溫至室溫，然后萃取、提純得到含N-P結構的衍生物；
滴加操作時，保持反應體系溫度為-78℃；N,N二乙基氨基二氯磷與S1步驟中咔唑的摩爾比為0.9～1.1:2；反應時間為11～13小時；
S3：于常溫條件下將S2步驟獲得的含N-P結構的衍生物溶于二氯甲烷溶液中，控制反應體系在低溫環境定量質量百分數為30%的雙氧水，所述低溫環境為小于或等于0℃，保持溶液溫度小于或等于0℃十分鐘，恢復室溫，常溫下攪拌過夜，萃取、提純，即得到目標產物；
所述含N-P結構的衍生物和雙氧水的摩爾比為1:2～3；反應時間為11～13小時。
3.權利要求1所述的一種含N-P=O共振結構的光電材料在電致發光器件的應用。
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