[發明專利]用于鐘表的具有表面紋理結構的部件及其制造方法

有效

• 申請號: 201910730557.3
• 申請日: 2019-08-08
• 公開（公告）號: CN110824878B
• 公開（公告）日: 2022-01-25
• 發明（設計）人: A·甘德爾曼;P·屈贊;M·韋拉爾多
• 申請（專利權）人: 尼瓦洛克斯-法爾股份有限公司
• 主分類號: G04B13/02
• 分類號: G04B13/02;G04B15/14
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 劉敏;吳鵬

1.一種具有摩擦接觸的兩個部件(2)的系統(1)，所述兩個部件用于在給定的摩擦方向上通過摩擦表面彼此摩擦接觸，其中摩擦發生在“功能區域”中，該系統(1)的特征在于，所述兩個部件(2)中的至少一個部件在功能區域中包括帶有紋理結構的表面，該紋理結構由一系列通過峰部(3b)分隔開的弧形的槽(3a)形成或由一系列通過槽(3a)分隔開的弧形的凸起(3c)形成，所述槽(3a)平行于所述給定的摩擦方向延伸，并允許排出由摩擦產生的碎屑(4)并用作潤滑劑(5)的儲存部，所述槽(3a)的深度P大于或等于100納米且小于或等于1000納米。

2.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，所述槽(3a)是縱向的并且彼此平行。

3.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，所述槽(3a)的深度P小于或等于300納米。

4.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，一系列的槽(3a)和峰部(3b)或一系列的凸起(3c)和槽(3a)形成周期性結構。

5.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，所述紋理結構位于通過深反應離子蝕刻加工的所述至少一個部件(2)的一個側壁(8a，9b)上。

6.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，所述兩個部件(2)中的每一個部件在功能區域中的一個表面上均包括所述紋理結構，所述槽(3a)彼此面對面地設置。

7.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，所述至少一個部件(2)中的僅一個在其表面上包括所述紋理結構，所述系統(1)的另一個部件(2)在所述功能區域中具有光滑表面。

8.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，所述至少一個部件(2)由硅或金屬制成。

9.根據權利要求1所述的系統(1)，其特征在于，所述兩個部件(2)都是鐘表部件。

10.一種包括具有摩擦接觸的兩個部件(2)的系統(1)的鐘表，所述兩個部件用于在給定的摩擦方向上通過摩擦表面彼此摩擦接觸，其中摩擦發生在“功能區域”中，該系統(1)的特征在于，所述兩個部件(2)中的至少一個部件在功能區域包括帶有紋理結構的表面，該紋理結構由一系列通過峰部(3b)分隔開的弧形的槽(3a)形成或由一系列通過槽(3a)分隔開的弧形的凸起(3c)形成，所述槽(3a)平行于所述給定的摩擦方向延伸，并允許排出由摩擦產生的碎屑(4)并用作潤滑劑(5)的儲存部，所述槽(3a)的深度P大于或等于100納米且小于或等于1000納米。

11.一種用于生產根據權利要求1所述的系統(1)的所述至少一個部件(2)的模具，所述部件包括一系列由槽(3a)分隔開的弧形的凸起(3c)，其中所述模具在其一個面上包括具有由一系列通過峰部(3b)分隔開的弧形的槽(3a)形成的所述紋理結構的腔。

12.一種用于制造分別由硅制成的模具或部件(2)的方法，該方法包括以下步驟：

(a)提供由硅制成的坯料(10)，

(b)通過深反應離子蝕刻工藝在所述坯料(10)上加工側壁(8a，9a)以形成模具或部件(2)，經加工側壁(8a，9a)具有由深反應離子蝕刻工藝形成的扇形紋理結構，所述紋理結構在所述經加工側壁(8a，9a)上限定一組深度為P的槽(3a)，所述方法的特征在于，在該方法結束時，所述槽(3a)保持在模具或部件(2)的經加工側壁(8a，9a)上，以在所述經加工側壁(8a，9a)上形成能夠收集碎屑(4)或接收潤滑劑(5)的通道，在所述方法結束時，所述模具或所述部件(2)的經加工側壁(8a，9a)上的所述槽(3a)的深度P大于或等于100納米且小于或等于1000納米。

13.根據權利要求12所述的方法，其特征在于，所述槽(3a)的深度P小于或等于300納米。