[發(fā)明專利]一種雙層氣體布局大面積介質(zhì)阻擋放電陣列裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910727999.2 | 申請日： | 2019-08-08 |
| 公開（公告）號： | CN110430653A | 公開（公告）日： | 2019-11-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 李夢超;榮垂才;劉巧;陳維;黃駿;王興權(quán) | 申請（專利權(quán)）人： | 贛南師范大學(xué) |
| 主分類號： | H05H1/24 | 分類號： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 341000 江西省贛州*** | 國省代碼： | 江西;36 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 反應(yīng)腔 放電 介質(zhì)阻擋放電 氧氣進(jìn)氣管 放電電極 高壓電源 氧氣室 氬氣室 放入 氧氣 低溫等離子體發(fā)生裝置 基本單元結(jié)構(gòu) 氬氣等離子體 高壓電極板 絕緣介質(zhì)板 氬氣進(jìn)氣管 氬氣 電極放電 多個裝置 工作物質(zhì) 雙層氣體 陣列裝置 電極板 高壓端 接地端 阻擋層 電極 尖嘴 進(jìn)氣 串聯(lián) | ||
1.一種雙層氣體布局大面積介質(zhì)阻擋放電陣列裝置，包括反應(yīng)腔，氧氣室，氬氣室，由相同的放電單元構(gòu)成放電陣列，高壓電極板以及連接至所述放電電極的高壓電源等，所述裝置為雙層氣體進(jìn)氣結(jié)構(gòu)，所述反應(yīng)腔與氧氣室用第一介質(zhì)板隔開，氧氣室與氬氣室用第二介質(zhì)板隔開，氬氣室底部為第三介質(zhì)板，所述放電陣列由放電單元組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述雙層氣體布局大面積介質(zhì)阻擋放電陣列裝置，所述放電單元由氧氣進(jìn)氣管、氬氣進(jìn)氣管、放電阻擋管、第一放電電極組成，氧氣進(jìn)氣管被固定于第一介質(zhì)板的通孔上，氬氣進(jìn)氣管被固定于第二介質(zhì)板的通孔上，放電阻擋管被固定于第三介質(zhì)板的通孔上，放電電極導(dǎo)線被固定于裝置最底部的電路板上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述雙層氣體布局大面積介質(zhì)阻擋放電陣列裝置，所述放電單元的氧氣進(jìn)氣管、氬氣進(jìn)氣管、放電阻擋管、第一放電電極線長度之比為1:2:3:4。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述雙層氣體布局大面積介質(zhì)阻擋放電陣列裝置，所述放電單元由內(nèi)到外依次是：第一放電電極、放電阻擋管、氬氣進(jìn)氣管、氧氣進(jìn)氣管。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述雙層氣體布局大面積介質(zhì)阻擋放電陣列裝置，第一介質(zhì)板、第二介質(zhì)板、第三介質(zhì)板上均打有通孔陣列，第一介質(zhì)板上的通孔直徑為10mm，第二介質(zhì)板上的通孔直徑為6mm，第三介質(zhì)板上的通孔直徑為4mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述雙層氣體布局大面積介質(zhì)阻擋放電陣列裝置，多個該裝置工作時，其反應(yīng)腔、氧氣室、氬氣室可分別串聯(lián)連接，實(shí)現(xiàn)多個裝置串聯(lián)連接工作，所述串聯(lián)連接工作時，通過反應(yīng)腔中液體流動帶走裝置反應(yīng)熱量。
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