[發明專利]一種以柯恩達效應為原理的GaN防氣體沖擊裝置有效
| 申請號: | 201910723308.1 | 申請日: | 2019-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN110351953B | 公開(公告)日: | 2020-10-13 |
| 發明(設計)人: | 趙真利 | 申請(專利權)人: | 樂清旭耀科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K3/00 | 分類號: | H05K3/00;H05K3/22 |
| 代理公司: | 佛山市智匯聚晨專利代理有限公司 44409 | 代理人: | 曹麗敏 |
| 地址: | 325600 浙江省溫州市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 柯恩達 效應 原理 gan 氣體 沖擊 裝置 | ||
一種以柯恩達效應為原理的GaN防氣體沖擊裝置,包括固定板,所述固定板的上表面固定安裝有兩個相對稱的固定架,兩個相對稱的固定架之間活動安裝有轉筒,轉筒的外表面開設有風槽,所述轉筒的兩端均固定安裝有卡塊。通過轉筒、風槽、卡塊、連接塊與轉軸的配合使用,可以有效的將激光在剝離GaN的過程中,利用柯恩達效應原理,將氣流都分散到轉筒的表面,保證了激光剝離工藝過程中產生的氣體不會直接沖擊GaN薄膜,對GaN薄膜具有一定的保護作用,同時,由于氣流被分散到轉筒的外表面,可以有效的保證由激光剝離工藝過程中產生的高溫,給予降溫,保證了GaN薄膜的使用壽命。
技術領域
本發明涉及柔性電子技術領域,具體為一種以柯恩達效應為原理的GaN防氣體沖擊裝置。
背景技術
激光剝離工藝氮化鎵(GaN)是利用一束波長小于360nm的激光,是利用一束波長小于360nm的激光,從Al2O3襯底上沒有外延上GaN薄膜一側入射,由于激光光子能量介于GaN和Al2O3禁帶寬度之間,因為Al2O3襯底對激光吸收系數很小,激光可以穿過Al2O3襯底而沒有太多能量的損失就能照射到GaN層,因為GaN材料對激光的吸收系數很大,當激光穿過Al2O3襯底入射到Al2O3襯底對激光吸收系數很小,激光可以穿過Al2O3襯底而沒有太多能量的損失就能照射到GaN層,因為GaN材料對激光的吸收系數很大,當激光穿過Al2O3襯底入射到Al2O3襯底和GaN的界面時,界面處一層厚度很薄的GaN材料會對激光有一個極強的吸收,將吸收的激光能量轉換成GaN材料的熱能,使得其溫度急速升高,迅速分解為Ga金屬和N2,從而實現GaN薄膜與Al2O3襯底的分離,從而制備出垂直結構的GaN薄膜。
目前,激光剝離工藝氮化鎵的方法有兩種,分為化學剝離與物理剝離,化學剝離則是Al2O3襯底上外延GaN之前先外延生長上一層犧牲層,然后再繼續外延GaN-LED器件結構,利用犧牲層可以和化學藥品反應的特點,使用化學腐蝕的方式將犧牲層腐蝕干凈,則可以實現GaN薄膜和外延Al2O3襯底的分離,但是這種方式,雖然分離的相對較為干凈,但是剝離效率不要高,且需要與犧牲層反應,比較浪費,剝離的成本較高,相比與化學剝離,激光剝離工藝是一種物理剝離的方式,并且具有剝離速度離速度快,剝離效率高,剝離成本低,并且不受化學藥品濃度影響等優點,但是激光剝離工藝過程中產生的氣體沖擊以及高溫沖擊則可能對GaN薄膜造成一定的損傷,也存在著比較浪費的現象。
發明內容
(一)技術方案
為實現上述使用物理剝離時,可保護柔性電路板不受損傷的目的,本發明提供如下技術方案:一種以柯恩達效應為原理的GaN防氣體沖擊裝置,包括固定板,所述固定板的上表面固定安裝有兩個相對稱的固定架,兩個相對稱的固定架之間活動安裝有轉筒,轉筒的外表面開設有風槽,所述轉筒的兩端均固定安裝有卡塊。
所述轉筒的內部通過連接塊固定安裝有轉軸,轉軸兩端的內部活動安裝有固定桿,固定桿的上端固定安裝有連接板,連接板的中部活動安裝有轉盤,轉盤的中心軸固定安裝有轉桿,轉桿的下端搭接有活動框,活動框的兩側固定安裝有兩個相對稱的移動條,所述移動條遠離活動框的一端搭接有兩個相對稱的限位柱,限位柱的上端固定與連接板的上表面固定安裝。
所述移動條的下表面固定安裝有連接桿,連接桿的下端螺紋連接有激光器。
進一步的,兩個相對稱的所述固定架之間通過轉軸與轉筒活動安裝,固定架靠近轉筒的一端插接在轉軸內,主要是為了方便轉筒在受到氣體沖擊的轉動。
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