[發(fā)明專利]研磨裝置及研磨方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910720628.1 | 申請日: | 2019-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN110802506B | 公開(公告)日: | 2023-03-07 |
| 發(fā)明(設計)人: | 陳柏翰;外崎宏;曾根忠一 | 申請(專利權)人: | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號: | B24B37/10 | 分類號: | B24B37/10;B24B37/32;B24B37/34;B24B57/02;B24B57/00 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產(chǎn)權代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本國東京都*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 研磨 裝置 方法 | ||
1.一種研磨裝置,所述研磨裝置使用具有研磨面的研磨墊進行研磨對象物的研磨,其特征在于,具備:
研磨臺,該研磨臺構成為能夠旋轉(zhuǎn),并用于支承所述研磨墊;
基板保持部,該基板保持部用于保持研磨對象物并將研磨對象物按壓于所述研磨墊;
供給裝置,該供給裝置用于在被按壓于所述研磨墊的狀態(tài)下向所述研磨面供給研磨液;以及
按壓機構,該按壓機構對所述研磨墊按壓所述供給裝置,
所述供給裝置具有:
側壁,該側壁被按壓于所述研磨面,并具有所述研磨臺的旋轉(zhuǎn)方向的上游側的第一壁和所述研磨臺的旋轉(zhuǎn)方向的下游側的第二壁;以及
保持空間,該保持空間由所述側壁包圍并對所述研磨面開口,該保持空間保持研磨液并向所述研磨面供給研磨液,
所述按壓機構能夠分別調(diào)整對所述第一壁及所述第二壁的按壓力,
所述按壓機構具有用于調(diào)整所述供給裝置的姿勢的按壓姿勢調(diào)整機構和具有桿的多個按壓裝置,
所述按壓姿勢調(diào)整機構具備按壓裝置側塊體和供給裝置側塊體,該按壓裝置側塊體與所述多個按壓裝置的桿連接,該供給裝置側塊體經(jīng)由軸以能夠旋轉(zhuǎn)的方式卡合于按壓裝置側塊體,并且固定于所述供給裝置,在所述供給裝置載置于研磨面上時,所述供給裝置側塊體相對于所述按壓裝置側塊體繞所述軸旋轉(zhuǎn),所述供給裝置相對于所述研磨面平行地設置。
2.根據(jù)權利要求1所述的研磨裝置,其特征在于,
所述按壓機構具有按壓所述供給裝置的多個按壓部,并且構成為能夠通過控制各按壓部的按壓力,分別調(diào)整對所述第一壁及所述第二壁的按壓力,所述按壓部由所述桿構成。
3.根據(jù)權利要求2所述的研磨裝置,其特征在于,
所述按壓機構通過分別調(diào)整對所述第一壁及所述第二壁的按壓力,從而利用所述第一壁將使用過的研磨液排出到所述研磨墊的外部,利用所述第二壁調(diào)整從所述保持空間向所述基板保持部側供給的所述研磨墊上的研磨液的量。
4.根據(jù)權利要求2所述的研磨裝置,其特征在于,
所述按壓機構通過分別調(diào)整所述按壓機構對所述第一壁及所述第二壁的按壓力,從而利用所述第一壁將使用過的研磨液的至少一部分回收到所述保持空間內(nèi),利用所述第二壁調(diào)整從所述保持空間向所述基板保持部側供給的所述研磨墊上的研磨液的量。
5.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的研磨裝置,其特征在于,
所述第一壁具有用于回收所述研磨面上的研磨液的一個或多個第一開口部。
6.根據(jù)權利要求5所述的研磨裝置,其特征在于,
所述一個或多個第一開口部分別具有任意的形狀及尺寸,且配置于所述第一壁的任意位置。
7.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的研磨裝置,其特征在于,
所述第一壁具有用于從所述保持空間向所述研磨面供給研磨液的一個或多個第二開口部。
8.根據(jù)權利要求7所述的研磨裝置,其特征在于,
所述一個或多個第二開口部分別具有任意的形狀及尺寸,且配置于所述第一壁的任意位置。
9.根據(jù)權利要求8所述的研磨裝置,其特征在于,
所述第一壁具有設置于不同高度的多個第二開口部。
10.根據(jù)權利要求1至4中任一項所述的研磨裝置,其特征在于,
所述第二壁具有用于從所述供給裝置的所述保持空間向所述基板保持部側供給研磨液的一個或多個第三開口部。
11.根據(jù)權利要求10所述的研磨裝置,其特征在于,
所述一個或多個第三開口部分別具有任意的形狀及尺寸,且配置于所述第二壁的任意位置。
12.根據(jù)權利要求11所述的研磨裝置,其特征在于,
所述第二壁具有設置于不同高度的多個第三開口部。
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