[發(fā)明專利]基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片及其制備方法和應用在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910713194.2 | 申請日： | 2019-08-02 |
| 公開（公告）號： | CN110501772A | 公開（公告）日： | 2019-11-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 岳文靜;李陽;高嵩;張春偉;付小倩 | 申請（專利權）人： | 濟南大學 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 37221 濟南圣達知識產權代理有限公司 | 代理人： | 鄭平<國際申請>=<國際公布>=<進入國 |
| 地址： | 250022 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 彩色濾光片 超高分辨率 透明覆蓋層 氫化非晶硅 制備方法和應用 光利用效率 納米柱結構 透射和反射 亞波長結構 陣列式結構 表面密封 彩色打印 襯底表面 結構參數(shù) 透明 全彩色 襯底 覆蓋 | ||
1.基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片，其特征在于，包括：透明襯底、介質超表面和透明覆蓋層；其中，所述介質超表面為納米柱結構的氫化非晶硅，其呈陣列式結構分布在透明襯底表面；所述透明覆蓋層覆蓋在介質超表面上。
2.如權利要求1所述的基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片，其特征在于，所述透明襯底的材質為具有高透射率的玻璃或石英或柔性襯底PMMA；優(yōu)選地，所述透明覆蓋層的材質為透明PDMS或PMMA。
3.如權利要求1所述的基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片，其特征在于，所述納米柱的高度在80nm到120nm的范圍內選擇。
4.如權利要求1所述的基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片，其特征在于，所述納米柱的直徑在60nm到170nm范圍內選擇。
5.如權利要求1所述的基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片，其特征在于，所述介質超表面由三組陣列構成，每組陣列中包含若干個呈陣列分布的納米柱。
6.如權利要求1所述的基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片，其特征在于，所述納米柱陣列結構的周期在80nm到400nm范圍內選擇。
7.如權利要求1-6任一項所述的基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片，其特征在于，用納米正方塊或長方塊陣列代替納米柱陣列構成介質超表面。
8.基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：在透明襯底上沉積氫化非晶硅薄膜；然后將該薄膜加工成納米柱陣列結構；最后在納米柱陣列結構上沉積透明覆蓋層，即得。
9.如權利要求8所述的制備方法，其特征在于，通過電子束光刻或者納米壓印的方式得到納米柱陣列結構；
優(yōu)選地，還包括步驟：透明覆蓋層沉積后，將濾光片的外表面加工成光滑狀態(tài)，更優(yōu)選為采用刻蝕的方法將濾光片的外表面加工成光滑狀態(tài)。
10.如權利要求1-7任一項所述的基于氫化非晶硅超表面的超高分辨率彩色濾光片和/或如權利要求8或9所述的制備方法在顯示成像、傳感探測、光伏器件、彩色全息、彩色打印領域中的應用。
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