[發明專利]一種顯示面板制程用掩模版及其應用有效
| 申請號: | 201910709919.0 | 申請日: | 2019-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN110473988B | 公開(公告)日: | 2020-11-10 |
| 發明(設計)人: | 孫亮;曾勉 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/56 | 分類號: | H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32;C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 面板 制程用掩 模版 及其 應用 | ||
1.一種顯示面板金屬陰極層的蒸鍍方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟S1:提供一顯示面板的基板和掩模版;
步驟S2:在所述基板上使用所述掩模版進行所述顯示面板的金屬陰極層的蒸鍍;所述掩模包括第一遮擋區,所述第一遮擋區內設置有一第一開口區,所述第一開口區內設置有第二遮擋區,所述第二遮擋區內設置有相互間隔的第二開口區;進行蒸鍍時,所述金屬陰極層形成在所述第一開口區和所述第二開口區內,所述金屬陰極層還在所述第二開口區外會形成一陰影區,所述陰影區環繞所述第二開口區;相鄰兩個所述第二開口區之間的距離小于所述陰影區寬度的2倍。
2.根據權利要求1所述的蒸鍍方法,其特征在于,所述第二開口區的形狀包括圓形形狀、六邊形形狀或四邊形形狀中的一種。
3.根據權利要求1所述的蒸鍍方法,其特征在于,所述第二遮擋區的形狀包括U型形狀或矩形形狀或半圓形形狀中的一種。
4.根據權利要求1所述的蒸鍍方法,其特征在于,所述第二遮擋區的數量為2個或以上。
5.一種顯示面板,其特征在于:包括基板層和設置在所述基板層上的金屬陰極層,所述顯示面板表面定義有顯示區和功能區,所述功能區包括發光區和透光區,所述發光區在所述功能區形成陣列排布的孔;其中所述金屬陰極層覆蓋所述顯示區和發光區;所述發光區包括第一發光區和環繞所述第一發光區的第二發光區,所述第二發光區上的所述金屬陰極層的厚度小于第一發光區上的所述金屬陰極層的厚度;相鄰兩個所述第一發光區之間的距離小于所述第二發光區寬度的2倍。
6.根據權利要求5所述的顯示面板,其特征在于,相鄰的所述第二發光區相互重疊的區域上的所述金屬陰極層的厚度大于所述第一發光區上的所述金屬陰極層的厚度。
7.根據權利要求5所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板的下方對應所述功能區的位置處設置有攝像頭模組或是光傳感器單元。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





