[發(fā)明專利]蝕刻液組合物

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910705938.6
• 申請日: 2019-08-01
• 公開（公告）號: CN111218686A
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設計）人: 殷熙天;金益俊;李熙雄;陳閏泰;金希泰;金世訓
• 申請（專利權）人: 易安愛富科技有限公司
• 主分類號: C23F1/30
• 分類號: C23F1/30
• 代理公司: 成都超凡明遠知識產(chǎn)權代理有限公司 51258
• 代理人: 魏彥;洪玉姬

1.一種蝕刻液組合物，

包含：

硝酸，

有機酸，

含硫化合物，及

含銅化合物；

所述有機酸不包含硫及銅原子；

所述含硫化合物包含化學式1的化合物、硫酸鹽或其組合，

化學式1：

化學式1中，

X為H、Na、K或銨，所述銨是取代或非取代的，

Y為H或OH，

R選自取代或非取代的C1～20的烷基。

2.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

所述含硫化合物包含化學式1的化合物及硫酸鹽。

3.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

所述化學式1的化合物包含選自由甲磺酸、乙磺酸、苯磺酸、甲苯磺酸、苯酚磺酸、羥甲基磺酸、羥乙基磺酸、羥丙基磺酸及其各鹽中的一個以上。

4.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

所述硫酸鹽包含選自由硫酸氫銨、硫酸銨、硫酸氫鈉、硫酸氫鉀、硫酸鈉、硫酸鉀、過硫酸鉀、過硫酸鈉及過硫酸銨所構成的組中的一個以上。

5.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

所述有機酸包含羧基。

6.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

所述有機酸包含選自由檸檬酸、丁烷四羧酸、乙酸、丁酸、甲酸、乙醇酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、乳酸、己酸、辛酸、苯乙酸、苯甲酸、苯單羧酸、硝基苯甲酸、羥基苯甲酸、二羥基苯、氨基苯甲酸、丙酮酸、葡萄糖酸、二乙酸、亞氨基二乙酸、次氨基三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙基三胺五乙酸、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸、亞氨基二琥珀酸、乙二胺二琥珀酸、聚亞氨基二琥珀酸、蘋果酸、山梨酸、延胡索酸、丙二酸、草酸、戊酸、丙酸、酒石酸及焦谷氨酸所構成的組中的一個以上。

7.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

所述含銅化合物包含選自由硝酸銅、硫酸銅、氯化銅、醋酸銅、氟化銅、碳酸銅、氧化銅、氟硼酸銅、甲磺酸銅、乙烷磺酸銅、丙醇磺酸銅、乙酸銅及檸檬酸銅所構成的組中的一個以上。

8.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

所述組合物進一步包含選自由咪唑、三唑、苯并三唑、氨基四唑、甲苯基三唑、吲哚、嘌呤、吡唑、吡啶、吡咯、吡咯烷、吡咯啉及丁二酰亞胺所構成的組中的一個以上作為附加添加劑。

9.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，包含：

1至20重量％的硝酸；

1至80重量％有機酸；

2至80重量％的含硫化合物；及

0.0001至1重量％的含銅化合物。

10.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，包含：

1至20重量％的硝酸；

1至50重量％的有機酸；

1至40重量％的化學式1化合物；

1至40重量％的硫酸鹽；及

0.0001至1重量％的含銅化合物。

11.根據(jù)權利要求1所述的蝕刻液組合物，其中，

選擇性蝕刻氧化銦薄膜、銀膜或其組合。