[發(fā)明專(zhuān)利]光擴(kuò)散片的制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910703385.0
• 申請(qǐng)日: 2019-07-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110346855B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-08-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 國(guó)成立;戴付建;趙烈烽
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 浙江舜宇光學(xué)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G02B5/02
• 分類(lèi)號(hào): G02B5/02;G03F7/20;G03F7/30
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 白雪

1.一種光擴(kuò)散片的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

在襯底(100)表面形成光刻膠層(21)，定義所述光刻膠層(21)具有中心區(qū)域和外圍區(qū)域，所述外圍區(qū)域包括n個(gè)第一外圍區(qū)域和n+1個(gè)第二外圍區(qū)域，所述第一外圍區(qū)域和所述第二外圍區(qū)域均環(huán)繞所述中心區(qū)域且交替設(shè)置，n為≥1的自然數(shù)；

對(duì)所述光刻膠層(21)順序進(jìn)行曝光和顯影，以將所述中心區(qū)域性形成微結(jié)構(gòu)層(10)，并將所述第一外圍區(qū)域和所述第二外圍區(qū)域形成具有凹槽(12)的防溢膠結(jié)構(gòu)(11)，所述防溢膠結(jié)構(gòu)(11)環(huán)繞所述微結(jié)構(gòu)層(10)，其中，對(duì)所述中心區(qū)域的曝光強(qiáng)度小于對(duì)所述第一外圍區(qū)域的曝光強(qiáng)度，且對(duì)所述第二外圍區(qū)域的曝光強(qiáng)度小于對(duì)所述第一外圍區(qū)域的曝光強(qiáng)度，

所述第一外圍區(qū)域?yàn)殚g隔設(shè)置的多個(gè)，對(duì)所述光刻膠層(21)進(jìn)行曝光并顯影，以將所述第一外圍區(qū)域和所述第二外圍區(qū)域形成多個(gè)所述凹槽(12)，各凹槽(12)結(jié)構(gòu)間隔設(shè)置并環(huán)繞所述微結(jié)構(gòu)層(10)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，在所述襯底(100)表面旋涂正性光刻膠，以得到所述光刻膠層(21)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述光刻膠層(21)的厚度為5～80μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，對(duì)所述光刻膠層(21)進(jìn)行曝光并顯影，以將所述中心區(qū)域形成具有周期性微結(jié)構(gòu)陣列或隨機(jī)分布微結(jié)構(gòu)陣列的所述微結(jié)構(gòu)層(10)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述的制備方法，其特征在于，所述中心區(qū)域?yàn)榫匦危鲋行膮^(qū)域的長(zhǎng)度為1.6～4mm，寬度為0.8～2mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，對(duì)所述光刻膠層(21)進(jìn)行曝光并顯影，以使襯底(100)表面中與所述第一外圍區(qū)域?qū)?yīng)的部分裸露，裸露的部分構(gòu)成所述凹槽(12)的底面。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，

在對(duì)所述光刻膠層(21)進(jìn)行曝光的步驟中，將所述襯底(100)水平放置，并使光線(xiàn)與所述第一外圍區(qū)域的表面之間具有傾斜角，以使所述第一外圍區(qū)域在顯影后形成針尖狀結(jié)構(gòu)；或

在對(duì)所述光刻膠層(21)進(jìn)行曝光的步驟中，將所述襯底(100)傾斜放置，并使光線(xiàn)與第一外圍區(qū)域的表面垂直，以使所述第一外圍區(qū)域在顯影后形成針尖狀結(jié)構(gòu)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，在對(duì)所述光刻膠層(21)進(jìn)行曝光的步驟中，對(duì)各所述第一外圍區(qū)域的曝光強(qiáng)度不相同。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述襯底(100)為硅層、碳化硅層、石英層、樹(shù)脂層、導(dǎo)電玻璃層和陶瓷層中的任一種。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述襯底(100)的厚度為0.4～0.6mm。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，在形成所述光刻膠層(21)的步驟之前，所述制備方法還包括對(duì)所述襯底(100)進(jìn)行高溫烘烤的步驟。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，對(duì)曝光后的所述光刻膠層(21)進(jìn)行顯影，顯影液包括TMAH。

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，在對(duì)所述光刻膠層(21)進(jìn)行曝光的步驟中，對(duì)所述第一外圍區(qū)域的曝光強(qiáng)度恒定。

14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，對(duì)所述光刻膠層(21)順序進(jìn)行曝光并顯影，以形成所述微結(jié)構(gòu)層(10)，所述制備方法還包括以下步驟：以所述微結(jié)構(gòu)層(10)為掩膜層對(duì)所述襯底(100)進(jìn)行刻蝕，以在所述襯底(100)表面形成微結(jié)構(gòu)。

15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，對(duì)所述光刻膠層(21)順序進(jìn)行曝光并顯影，以形成所述微結(jié)構(gòu)層(10)，所述制備方法還包括以下步驟：以所述微結(jié)構(gòu)層(10)為掩膜層對(duì)所述襯底(100)進(jìn)行電鑄以制作金屬母版。