[發明專利]一種石墨烯/六硼化鑭復合薄膜、制備方法及應用

有效

• 申請號: 201910702525.2
• 申請日: 2019-07-31
• 公開（公告）號: CN110408908B
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 張琳;慈立杰;趙國慶;徐宙;王新秀
• 申請（專利權）人: 山東大學
• 主分類號: C23C16/26
• 分類號: C23C16/26;C23C16/455;C23C16/56;C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58;H01B5/14;H01B13/00
• 代理公司: 濟南圣達知識產權代理有限公司 37221
• 代理人: 張曉鵬

1.一種石墨烯/六硼化鑭復合薄膜，其特征在于，所述復合薄膜采用硅或石英玻璃為基底，基底表面具有石墨烯/六硼化鑭復合薄膜；

所述石墨烯/六硼化鑭復合薄膜的制備方法為：通過氣相沉積法在銅襯底上沉積得到石墨烯，將石墨烯轉移到硅或石英玻璃基底上，通過磁控濺射在基底上獲得GN/LaB₆復合薄膜；

所述氣相沉積具體步驟如下：將管式爐內抽真空處理，通入氫氣和氬氣，升溫至1000～1200℃后保溫一段時間，通入甲烷、關閉氬氣，待石墨烯生長完成后，隨爐冷卻至室溫；所述氫氣和氬氣的流量比為H₂：Ar＝10～30:900～1100；所述升溫采取階段性升溫方式；通入甲烷時間為10～20min；所述甲烷和氫氣的流量比為4:20；

所述磁控濺射的功率為42W，時間為4min，所述磁控濺射完成后還包括熱處理步驟，所述熱處理為600℃下保溫1h。

2.如權利要求1所述石墨烯/六硼化鑭復合薄膜，其特征在于，隨爐冷卻至室溫后，繼續通一段時間氬氣，使爐內壓強接近大氣壓。

3.如權利要求1所述石墨烯/六硼化鑭復合薄膜，其特征在于，所述石墨烯轉移采用PMMA輔助法。

4.如權利要求3所述石墨烯/六硼化鑭復合薄膜，其特征在于，采用PMMA的氯代苯溶液將銅襯底上的石墨烯轉移至基底上。