[發(fā)明專利]表情模型生成方法及相關(guān)產(chǎn)品

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910701501.5
• 申請(qǐng)日: 2019-07-31
• 公開（公告）號(hào): CN110442237A
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱袁煊;黃展鵬;韓蕊;戴立根
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市商湯科技有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/01
• 分類號(hào): G06F3/01;G06T19/00;G06T19/20
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強(qiáng)

本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種表情模型生成方法及相關(guān)產(chǎn)品，其中，獲取目標(biāo)人臉圖像中人臉的表情系數(shù)；根據(jù)所述表情系數(shù)確定出目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)；根據(jù)所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，控制粒子在目標(biāo)表情模型中發(fā)射，所述目標(biāo)表情模型為根據(jù)所述表情系數(shù)模擬人臉表情的模型，因此，能夠提升對(duì)虛擬角色進(jìn)行動(dòng)作驅(qū)動(dòng)時(shí)的準(zhǔn)確性。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及數(shù)據(jù)處理技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種表情模型生成方法及相關(guān)產(chǎn)品。

背景技術(shù)

隨著電子技術(shù)的不斷發(fā)展，電子技術(shù)對(duì)人們的生活帶來了巨大的改變。隨著人機(jī)交互技術(shù)的不斷發(fā)展，逐漸出現(xiàn)了通過用戶的人臉表情來驅(qū)動(dòng)不同的虛擬模型做出相應(yīng)的動(dòng)作，例如，通過張嘴來驅(qū)動(dòng)虛擬模型中的虛擬角色進(jìn)行張嘴動(dòng)作。但是，在進(jìn)行虛擬模型驅(qū)動(dòng)時(shí)，通常采用表情驅(qū)動(dòng)虛擬角色做出相應(yīng)的表情等。因此，在對(duì)虛擬角色進(jìn)行動(dòng)作驅(qū)動(dòng)時(shí)真實(shí)感較低，從而導(dǎo)致了進(jìn)行虛擬角色驅(qū)動(dòng)時(shí)的準(zhǔn)確性較低。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種表情模型生成方法及相關(guān)產(chǎn)品，能夠提升對(duì)虛擬角色進(jìn)行動(dòng)作驅(qū)動(dòng)時(shí)的準(zhǔn)確性。

第一方面，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種表情模型生成方法，所述方法包括：

獲取目標(biāo)人臉圖像中人臉的表情系數(shù)；

根據(jù)所述表情系數(shù)確定出目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)；

根據(jù)所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，控制粒子在目標(biāo)表情模型中發(fā)射，所述目標(biāo)表情模型為根據(jù)所述表情系數(shù)模擬人臉表情的模型。

本示例中，可以獲取目標(biāo)人臉圖像中人臉的表情系數(shù)，根據(jù)所述表情系數(shù)確定出目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，根據(jù)所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，控制粒子在目標(biāo)表情模型中發(fā)射，所述目標(biāo)表情模型為根據(jù)所述表情系數(shù)模擬人臉表情的模型，因此，能夠根據(jù)用戶的表情系數(shù)確定出粒子發(fā)射參數(shù)，并在目標(biāo)表情模型中以目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)進(jìn)行粒子發(fā)射，從而可以提升對(duì)模型驅(qū)動(dòng)后展示效果的真實(shí)感，進(jìn)而能夠一定程度上提升對(duì)采用目標(biāo)表情模型對(duì)虛擬角色進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的準(zhǔn)確性。

所述根據(jù)所述表情系數(shù)確定出目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，包括：

在所述表情系數(shù)大于預(yù)設(shè)表情系數(shù)閾值的情況下，確定出與所述表情系數(shù)對(duì)應(yīng)的語義系數(shù)；

根據(jù)所述語義系數(shù)，確定出所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)。

本示例中，在表情系數(shù)大于預(yù)設(shè)表情系數(shù)閾值的情況下，確定表情系數(shù)對(duì)應(yīng)的語義系數(shù)，根據(jù)語義系數(shù)確定出目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，能夠根據(jù)表情系數(shù)的值動(dòng)態(tài)的確定目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，從而可以一定程度上提升對(duì)目標(biāo)表情模型進(jìn)行驅(qū)動(dòng)時(shí)的準(zhǔn)確性。

可選的，所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)包括每個(gè)時(shí)間段發(fā)射的粒子數(shù)量、目標(biāo)粒子發(fā)射起點(diǎn)、目標(biāo)粒子發(fā)射速率、目標(biāo)粒子發(fā)射方向、目標(biāo)粒子顏色中至少一種。

可選的，在所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)為目標(biāo)粒子發(fā)射速率的情況下，所述根據(jù)所述語義系數(shù)，確定出所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，包括：

基于所述語義系數(shù)的正弦函數(shù)值，確定出所述目標(biāo)粒子發(fā)射速率。

可選的，在所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)為目標(biāo)粒子發(fā)射方向的情況下，所述根據(jù)所述語義系數(shù)，確定出所述目標(biāo)粒子發(fā)射參數(shù)，包括：

獲取目標(biāo)粒子發(fā)射位置，所述目標(biāo)粒子發(fā)射位置為在所述目標(biāo)表情模型中發(fā)射粒子的位置；

根據(jù)所述語義系數(shù)，確定出粒子發(fā)射偏離角，所述發(fā)射偏離角為粒子發(fā)射方向相對(duì)于所述目標(biāo)粒子發(fā)射位置指示的發(fā)射區(qū)域的中心線的偏離角，所述中心線為經(jīng)過所述發(fā)射區(qū)域中心點(diǎn)且垂直于所述發(fā)射區(qū)域所在平面的直線；

根據(jù)所述粒子發(fā)射偏離角，確定出所述目標(biāo)粒子發(fā)射方向。

本示例中，根據(jù)目標(biāo)表情語義系數(shù)確定出粒子發(fā)射偏離角，根據(jù)粒子發(fā)射偏離角確定出目標(biāo)粒子發(fā)射方向，通過偏離角來確定發(fā)射方向，則可以提升確定目標(biāo)粒子發(fā)射方向時(shí)的準(zhǔn)確性較高。