[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910701059.6
• 申請(qǐng)日: 2019-07-31
• 公開（公告）號(hào): CN110456577A
• 公開（公告）日: 2019-11-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 尹炳坤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 武漢華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1339
• 分類號(hào): G02F1/1339
• 代理公司: 44300 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 黃威<國(guó)際申請(qǐng)>=<國(guó)際公布>=<進(jìn)入國(guó)

1.一種顯示面板，其特征在于，所述顯示面板包括相對(duì)設(shè)置的第一基板和第二基板；

其中，在所述第一基板上設(shè)置有多個(gè)第一隔墊物，在所述第二基板上設(shè)置有多個(gè)與所述第一隔墊物對(duì)應(yīng)設(shè)置的第二隔墊物，所述第二隔墊物靠近所述第一基板的一側(cè)設(shè)置有凹槽，所述第一隔墊物遠(yuǎn)離所述第一基板的一端置入所述凹槽內(nèi)，以使所述第一基板與所述第二基板的相對(duì)位置固定。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第一基板和所述第二基板的其中一個(gè)為彩膜基板，另外一個(gè)為陣列基板；

其中，所述彩膜基板包括多個(gè)色阻以及設(shè)置于相鄰所述色阻之間的黑矩陣；所述陣列基板包括薄膜晶體管陣列層以及設(shè)置于所述薄膜晶體管陣列層上的像素電極層。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述凹槽在第一方向上的深度小于所述第二隔墊物在所述第一方向上的高度；其中，所述第一方向?yàn)閺乃龅谝换逯了龅诙宸较颍坏诙较蚺c所述第一方向相互垂直。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述第一隔墊物遠(yuǎn)離所述第一基板的一端與所述凹槽的底端在所述第二方向上的尺寸相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述第一隔墊物的截面形狀為倒梯形，所述第一隔墊物的橫截面面積沿所述第一方向逐漸減小。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第一隔墊物遠(yuǎn)離所述第一基板的一端與所述凹槽的底端相互貼合。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述第一基板為彩膜基板，所述第二基板為陣列基板，所述第一基板還包括保護(hù)層，其中，所述保護(hù)層設(shè)置于所述色阻層上，所述第一隔墊物靠近所述第一基板的一端位于所述保護(hù)層中，所述第一隔墊物遠(yuǎn)離所述第一基板的一端高于所述保護(hù)層表面。

8.一種權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟S10：形成第一基板，在所述第一基板上形成第一隔墊物；

步驟S20：形成第二基板，在所述第二基板上形成第二隔墊物，在所述第二隔墊物上形成凹槽；以及

步驟S30：將所述第一基板和所述第二基板進(jìn)行對(duì)盒，并在所述第一基板和所述第二基板之間設(shè)置液晶層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟S10包括以下步驟：

步驟S 101：提供第一襯底，依次在所述第一襯底上形成多個(gè)色阻、位于相鄰所述色阻之間的黑矩陣以及位于所述色阻上的保護(hù)層；以及

步驟S 102：在所述黑矩陣上形成所述第一隔墊物。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示面板的制作方法，其特征在于，所述步驟S20包括以下步驟：

步驟S201：提供第二襯底，依次在所述第二襯底上形成薄膜晶體管陣列層、像素電極層以及有機(jī)層；以及

步驟S202：采用半色調(diào)掩膜工藝對(duì)所述有機(jī)層進(jìn)行曝光、顯影及灰化以形成所述第二隔墊物，并在所述第二隔墊物上形成凹槽。