[發明專利]用于極紫外光刻的反射鏡的基底有效
| 申請號： | 201910693451.0 | 申請日： | 2012-01-14 |
| 公開（公告）號： | CN110376670B | 公開（公告）日： | 2022-03-22 |
| 發明（設計）人： | C.埃克斯坦;H.馬爾特 | 申請（專利權）人： | 卡爾蔡司SMT有限責任公司 |
| 主分類號： | G02B5/08 | 分類號： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 紫外 光刻 反射 基底 | ||
1.一種用于EUV光刻的反射鏡的包含基礎體的基底，其特征在于所述基礎體(2)由合金制成，所述合金具有在相應的合金系的相圖中位于由相穩定線定界的區域中的組成，使得任何熔析過程都能夠由熱處理完全停止，其中，所述合金系為二元鋁-銅系。
2.根據權利要求1所述的基底，其特征在于，所述合金為具有替代晶格的合金。
3.根據權利要求1所述的基底，其特征在于，所述合金是沉淀硬化的。
4.一種用于EUV光刻的反射鏡的包含基礎體的基底，其特征在于，所述基礎體(2)由合金系的金屬間相制成，以及所述基礎體(2)由其中觀察到化學計量標準組成的金屬間相制成，其中，所述合金系為二元鋁-銅系。
5.根據權利要求4所述的基底，其特征在于，所述基礎體(2)由具有對應于所述合金系的相圖中的相穩定線的組成的金屬間相制成。
6.根據權利要求4所述的基底，其特征在于，所述合金具有在相應的合金系的相圖中位于由相穩定線定界的區域中的組成。
7.根據權利要求4所述的基底，其特征在于，所述金屬間相在晶體形式具有與其成分相同的布拉伐晶格。
8.根據權利要求1至3以及4至7中任一項所述的基底，其特征在于，所述基礎體(2)的材料具有面心立方結構。
9.根據權利要求1至3以及4至7中任一項所述的基底，其特征在于，在一年的時間內，在溫度從20℃變化至150℃的情況下，所述基礎體(2)的材料的微結構不發生變化。
10.根據權利要求1至3以及4至7中任一項所述的基底，其特征在于，拋光層(3)布置在所述基礎體(2)上。
11.根據權利要求10所述的基底，其特征在于，在所述基礎體(2)和所述拋光層(3)之間布置附著促進層(4)。
12.一種用于EUV投射曝光設備的反射鏡，包含根據權利要求1至11中任一項所述的基底(1)以及在所述基底(1)上的高反射層(6)。
13.一種用于EUV投射曝光設備的反射鏡，包含根據權利要求10或11所述的基底(1)以及在所述拋光層(3)上的高反射層(6)。
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